| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第18-36页 |
| 1.1 引言 | 第18页 |
| 1.2 CH_4-CO_2重整反应制备合成气的研究 | 第18-26页 |
| 1.2.1 甲烷制合成气的主要方式 | 第19-20页 |
| 1.2.1.1 甲烷水蒸气重整 | 第19-20页 |
| 1.2.1.2 甲烷部分氧化反应 | 第20页 |
| 1.2.1.3 CH_4-CO_2重整 | 第20页 |
| 1.2.2 CH_4-CO_2重整反应的研究 | 第20-26页 |
| 1.2.2.1 热力学分析 | 第20-21页 |
| 1.2.2.2 反应机理分析 | 第21-22页 |
| 1.2.2.3 催化剂研究 | 第22-26页 |
| 1.2.2.3.1 活性组分 | 第22-23页 |
| 1.2.2.3.2 载体 | 第23-24页 |
| 1.2.2.3.3 助剂 | 第24-25页 |
| 1.2.2.3.4 失活分析 | 第25-26页 |
| 1.3 碳化硅材料在催化反应中的应用 | 第26-33页 |
| 1.3.1 碳化硅的结构和性能 | 第26-28页 |
| 1.3.1.1 晶体结构 | 第27页 |
| 1.3.1.2 物化性能 | 第27-28页 |
| 1.3.2 碳化硅作为催化剂载体的研究进展 | 第28-33页 |
| 1.3.2.1 高比表面积的碳化硅 | 第28-31页 |
| 1.3.2.2 低比表面积的碳化硅 | 第31-33页 |
| 1.4 本论文研究的意义与内容 | 第33-36页 |
| 1.4.1 研究意义 | 第33页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第33-36页 |
| 第二章 实验部分 | 第36-44页 |
| 2.1 实验原料 | 第36页 |
| 2.2 实验仪器 | 第36-37页 |
| 2.3 催化剂制备 | 第37-40页 |
| 2.3.1 C-SiC载体的制备 | 第37页 |
| 2.3.2 N-C-SiC载体的制备 | 第37-38页 |
| 2.3.3 Ni/C-SiC和Ni/N-C-SiC催化剂的制备 | 第38-39页 |
| 2.3.4 Ni/CeO_2-C-SiC催化剂的制备 | 第39页 |
| 2.3.5 Ni/La_2O_3-C-SiC催化剂的制备 | 第39-40页 |
| 2.4 催化剂表征 | 第40-42页 |
| 2.4.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第40页 |
| 2.4.2 N_2吸附 | 第40页 |
| 2.4.3 X射线衍射(XRD) | 第40-41页 |
| 2.4.4 透射电子显微镜(TEM) | 第41页 |
| 2.4.5 热重/差热分析(TG/DTA) | 第41页 |
| 2.4.6 氢气程序升温还原(H_2-TPR) | 第41页 |
| 2.4.7 X射线光电子能谱(XPS) | 第41-42页 |
| 2.5 催化剂性能评价 | 第42-44页 |
| 第三章 Ni/C-SiC和Ni/N-C-SiC催化剂在CH_4-CO_2重整中的性能研究 | 第44-58页 |
| 3.1 引言 | 第44页 |
| 3.2 实验结果与讨论 | 第44-57页 |
| 3.2.1 催化剂的CH_4-CO_2重整性能 | 第44-48页 |
| 3.2.1.1 碳化时间的影响 | 第44-45页 |
| 3.2.1.2 N掺杂时间的影响 | 第45-46页 |
| 3.2.1.3 N掺杂含量的影响 | 第46页 |
| 3.2.1.4 Ni/SiC、Ni/C-SiC-1和Ni/N-C-SiC-1-0.375：1催化剂的性能比较 | 第46-48页 |
| 3.2.2 载体表征 | 第48-50页 |
| 3.2.2.1 SEM | 第48-49页 |
| 3.2.2.2 N_2吸附 | 第49-50页 |
| 3.2.3 催化剂表征 | 第50-57页 |
| 3.2.3.1 XRD | 第50-52页 |
| 3.2.3.2 TEM | 第52-54页 |
| 3.2.3.3 TG | 第54-56页 |
| 3.2.3.4 H_2-TPR | 第56-57页 |
| 3.3 小结 | 第57-58页 |
| 第四章 CeO_2改性的Ni/C-SiC催化剂在CH_4-CO_2重整中的性能研究 | 第58-72页 |
| 4.1 引言 | 第58页 |
| 4.2 实验结果与讨论 | 第58-71页 |
| 4.2.1 催化剂的CH_4-CO_2重整性能 | 第58-60页 |
| 4.2.1.1 CeO_2含量的影响 | 第58-59页 |
| 4.2.1.2 Ni/C-SiC-1和Ni/20CeO_2-C-SiC-1催化剂的性能比较 | 第59-60页 |
| 4.2.2 催化剂表征 | 第60-71页 |
| 4.2.2.1 N_2吸附 | 第60-61页 |
| 4.2.2.2 XRD | 第61-63页 |
| 4.2.2.3 TEM | 第63-66页 |
| 4.2.2.4 TG/DTA | 第66-68页 |
| 4.2.2.5 H_2-TPR | 第68-69页 |
| 4.2.2.6 XPS | 第69-71页 |
| 4.3 小结 | 第71-72页 |
| 第五章 La_2O_3改性的Ni/C-SiC催化剂在CH_4-CO_2重整中的性能研究 | 第72-82页 |
| 5.1 引言 | 第72页 |
| 5.2 实验结果与讨论 | 第72-80页 |
| 5.2.1 催化剂的CH_4-CO_2重整性能 | 第72-74页 |
| 5.2.1.1 La_2O_3含量的影响 | 第72-73页 |
| 5.2.1.2 Ni/C-SiC-1和Ni/5La_2O_3-C-SiC-1催化剂的性能比较 | 第73-74页 |
| 5.2.2 催化剂表征 | 第74-80页 |
| 5.2.2.1 N_2吸附 | 第74-75页 |
| 5.2.2.2 XRD | 第75-77页 |
| 5.2.2.3 TEM | 第77-79页 |
| 5.2.2.4 TG | 第79页 |
| 5.2.2.5 H_2-TPR | 第79-80页 |
| 5.3 小结 | 第80-82页 |
| 第六章 结论与展望 | 第82-84页 |
| 6.1 结论 | 第82页 |
| 6.2 创新点 | 第82页 |
| 6.3 展望 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-92页 |
| 致谢 | 第92-94页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第94-96页 |
| 作者和导师简介 | 第96-98页 |
| 北京化工大学硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第98-100页 |
