摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-22页 |
1.1 半导体光催化研究背景 | 第10页 |
1.2 半导体光催化的基本原理 | 第10-11页 |
1.3 半导体光催化改性研究 | 第11-17页 |
1.3.1 金属非金属掺杂 | 第11-13页 |
1.3.2 贵金属表面沉积 | 第13页 |
1.3.3 半导体的光敏化 | 第13-14页 |
1.3.4 半导体复合 | 第14-17页 |
1.4 本论文涉及的几种光催化材料 | 第17-22页 |
1.4.1 Ag/Ag Br | 第17页 |
1.4.2 石墨相氮化碳(g-C3N4) | 第17-20页 |
1.4.3 氯氧化铋(Bi OCl) | 第20-22页 |
第二章 Ag/Ag Br的制备及可见光催化性能研究 | 第22-34页 |
2.1 引言 | 第22-23页 |
2.2 实验部分 | 第23-25页 |
2.2.1 实验试剂 | 第23页 |
2.2.2 实验仪器 | 第23页 |
2.2.3 催化剂的制备 | 第23-24页 |
2.2.4 光催化剂的表征 | 第24页 |
2.2.5 Ag/Ag Br光催化活性研究 | 第24-25页 |
2.2.6 Ag/Ag Br活性组分捕捉实验 | 第25页 |
2.3 结果与讨论 | 第25-33页 |
2.3.1 XRD分析 | 第25-26页 |
2.3.2 SEM分析 | 第26-28页 |
2.3.3 Ag/Ag Br的生长机理 | 第28-29页 |
2.3.4 UV-vis分析 | 第29-30页 |
2.3.5 光催化活性分析 | 第30-31页 |
2.3.6 PL光谱 | 第31-32页 |
2.3.7 光催化机理分析 | 第32-33页 |
2.4 本章小结 | 第33-34页 |
第三章 Ag/Ag Br/g-C3N4的制备及可见光催化性能研究 | 第34-46页 |
3.1 引言 | 第34-35页 |
3.2 实验部分 | 第35-37页 |
3.2.1 实验试剂 | 第35页 |
3.2.2 实验仪器 | 第35-36页 |
3.2.3 光催化剂的制备 | 第36页 |
3.2.4 光催化剂的表征 | 第36页 |
3.2.5 Ag/Ag Br/g-C3N4光催化实验 | 第36-37页 |
3.2.6 Ag/Ag Br/g-C3N4复合材料降解MO稳定性测试 | 第37页 |
3.2.7 Ag/Ag Br/g-C3N4活性组分捕捉实验 | 第37页 |
3.3 结果与讨论 | 第37-45页 |
3.3.1 XRD分析 | 第37-38页 |
3.3.2 SEM分析 | 第38-39页 |
3.3.3 UV-vis分析 | 第39-40页 |
3.3.4 光催化活性分析 | 第40-42页 |
3.3.5 光催化稳定性分析 | 第42-43页 |
3.3.6 PL光谱 | 第43页 |
3.3.7 光催化机理分析 | 第43-45页 |
3.4 本章小结 | 第45-46页 |
第四章 Ag/Ag Br/Bi OCl的制备及可见光催化性能研究 | 第46-58页 |
4.1 引言 | 第46-47页 |
4.2 实验部分 | 第47-49页 |
4.2.1 实验试剂 | 第47页 |
4.2.2 实验仪器 | 第47-48页 |
4.2.3 催化剂的制备 | 第48页 |
4.2.4 光催化剂的表征 | 第48页 |
4.2.5 Ag/Ag Br/Bi OCl复合材料光催化活性研究 | 第48-49页 |
4.2.6 Ag/Ag Br/Bi OCl复合材料降解MO稳定性测试 | 第49页 |
4.2.7 Ag/Ag Br/Bi OCl活性组分捕捉实验 | 第49页 |
4.3 结果与讨论 | 第49-56页 |
4.3.1 XRD分析 | 第49-50页 |
4.3.2 SEM分析 | 第50-51页 |
4.3.3 UV-vis分析 | 第51-52页 |
4.3.4 光催化活性分析 | 第52-54页 |
4.3.5 光催化稳定性分析 | 第54页 |
4.3.6 PL光谱 | 第54-55页 |
4.3.7 光催化机理探究 | 第55-56页 |
4.4 本章小结 | 第56-58页 |
第五章 结论和展望 | 第58-60页 |
5.1 结论 | 第58-59页 |
5.2 展望 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-67页 |
硕士期间取得的成果 | 第67-68页 |
致谢 | 第68页 |