| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 调Q激光器研究现状与应用 | 第10-14页 |
| 1.1.1 主动调Q激光器研究现状 | 第11-13页 |
| 1.1.2 被动调Q激光器研究现状 | 第13-14页 |
| 1.2 激光与调Q晶体发展现状 | 第14-17页 |
| 1.2.1 激光晶体发展现状 | 第15-16页 |
| 1.2.2 调Q晶体发展现状 | 第16-17页 |
| 1.3 Tm,Ho:YVO_4激光器发展现状 | 第17页 |
| 1.4 2μm调Q固体激光器应用前景 | 第17-18页 |
| 1.5 本论文主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 调Q基本理论 | 第19-25页 |
| 2.1 主动调Q原理 | 第19-22页 |
| 2.2 被动调Q原理 | 第22-24页 |
| 2.3 本章小结 | 第24-25页 |
| 第3章 Tm,Ho:YVO_4连续激光输出特性 | 第25-34页 |
| 3.1 引言 | 第25页 |
| 3.2 Tm,Ho:YVO_4连续激光器的实验研究 | 第25-33页 |
| 3.2.1 实验装置 | 第26-28页 |
| 3.2.2 不同谐振腔条件下的连续输出 | 第28-29页 |
| 3.2.3 输出功率随不同输出镜透过率的关系 | 第29-30页 |
| 3.2.4 输出功率随泵浦源温度的变化关系 | 第30-31页 |
| 3.2.5 光束质量和光谱的测定 | 第31-33页 |
| 3.3 本章小结 | 第33-34页 |
| 第4章 Tm,Ho:YVO_4调Q激光器实验研究 | 第34-57页 |
| 4.1 Tm,Ho:YVO_4主动调Q激光器的实验研究 | 第34-46页 |
| 4.1.1 实验装置 | 第34-35页 |
| 4.1.2 Tm,Ho:YVO_4主动调Q输出特性 | 第35-46页 |
| 4.2 Tm,Ho:YVO_4被动调Q激光器的实验研究 | 第46-55页 |
| 4.2.1 实验装置 | 第46页 |
| 4.2.2 Tm,Ho:YVO_4被动调Q输出特性 | 第46-55页 |
| 4.3 本章小结 | 第55-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
