| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第10-36页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 含氢非晶硅薄膜晶体管的研究现状与技术局限 | 第11-15页 |
| 1.3 低温多晶硅薄膜晶体管的研究现状与技术局限 | 第15-17页 |
| 1.4 a-IGZO TFT的基本性质 | 第17-22页 |
| 1.5 a-IGZO TFT的应用前景和存在的科学问题 | 第22-26页 |
| 1.6 本论文的主要研究内容 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-36页 |
| 第二章 白光照射下a-IGZO TFT稳定性的研究 | 第36-50页 |
| 2.1 背景介绍 | 第36-37页 |
| 2.2 a-IGZO TFT的工艺制备过程 | 第37-40页 |
| 2.3 白光照射对a-IGZO TFT稳定性的影响 | 第40-43页 |
| 2.4 白光照射对a-IGZO TFT性能恢复的影响 | 第43-45页 |
| 2.5 本章小结 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 第三章 紫外光照射下a-IGZO TFT稳定性的研究 | 第50-64页 |
| 3.1 背景介绍 | 第50-51页 |
| 3.2 a-IGZO TFT的工艺制备过程 | 第51-53页 |
| 3.3 紫外光照射对a-IGZO TFT稳定性的影响 | 第53-57页 |
| 3.4 a-IGZO TFT性能退化和恢复机制的分析 | 第57-60页 |
| 3.5 本章小结 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 第四章 工作总结与展望 | 第64-67页 |
| 4.1 主要结论 | 第64-65页 |
| 4.2 研究展望 | 第65-67页 |
| 发表论文目录 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
