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单层及薄层As2S3的制备及其光电性能研究

致谢第5-6页
中文摘要第6-7页
ABSTRACT第7页
1 绪论第10-21页
    1.1 引言第10-11页
    1.2 二维材料的介绍第11-14页
    1.3 二维材料的相关应用第14-15页
    1.4 二维材料的制备方法第15-16页
        1.4.1 自上而下的方法第15页
        1.4.2 自下而上的方法第15-16页
    1.5 三硫化二砷的研究现状及应用第16-19页
        1.5.1 研究现状第16-18页
        1.5.2 三硫化二砷的应用第18-19页
    1.6 本论文选题背景及主要研究目的意义第19-20页
    1.7 本论文的结构与安排第20-21页
2 单层及薄层三硫化二砷的制备第21-28页
    2.1 引言第21页
    2.2 单层及薄层三硫化二砷的制备方法第21-22页
    2.3 制备所需器材与材料第22页
    2.4 材料剥离及制备过程第22-24页
        2.4.1 衬底清洗第22-23页
        2.4.2 剥离操作过程第23-24页
    2.5 寻找和定位单层及薄层样品第24-27页
        2.5.1 安放样品硅片第24页
        2.5.2 在光学显微镜下初步区分单层、薄层和体材料第24-26页
        2.5.3 定位方法——十字交叉点定位法第26-27页
    2.6 本章小结第27-28页
3 样品的表征第28-53页
    3.1 引言第28页
    3.2 扫描电子显微镜(SEM)表征第28-32页
        3.2.1 SEM工作原理第29-30页
        3.2.2 样品表征结果第30-32页
    3.3 原子力显微镜(AFM)表征第32-41页
        3.3.1 AFM工作原理第33-34页
        3.3.2 样品表征结果第34-36页
        3.3.3 样品层数及厚度分析第36-41页
    3.4 拉曼光谱研究第41-47页
        3.4.1 工作原理第42页
        3.4.2 拉曼表征结果第42-46页
        3.4.3 测试结果分析第46页
        3.4.4 测试中存在的问题第46-47页
    3.5 光致发光谱表征第47-52页
        3.5.1 工作原理第47-48页
        3.5.2 光致发光测试结果第48-50页
        3.5.3 测试结果分析第50-52页
    3.6 本章小结第52-53页
4 单层As_2S_3场效应晶体管的制备及电学性能表征第53-64页
    4.1 引言第53页
    4.2 场效应晶体管的原理第53-55页
    4.3 单层三硫化二砷场效应晶体管的设计第55-56页
    4.4 性能测试第56-62页
        4.4.1 转移特性曲线第57-61页
        4.4.2 输出特性曲线第61-62页
    4.5 本章小结第62-64页
5 结论与展望第64-65页
参考文献第65-68页
作者简历第68-70页
学位论文数据集第70页

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