全背式硅基薄膜太阳能电池的设计与制备
| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-13页 |
| 1.2 本文主要工作安排 | 第13-15页 |
| 第二章 太阳电池基本理论 | 第15-23页 |
| 2.1 半导体光吸收特性 | 第15-16页 |
| 2.2 光生载流子的产生与复合 | 第16-18页 |
| 2.3 太阳能电池的等效电路 | 第18页 |
| 2.4 太阳能电池的输出特性 | 第18-20页 |
| 2.5 转换效率提升的设计考虑 | 第20-22页 |
| 2.6 本章小节 | 第22-23页 |
| 第三章 全背式薄膜电池的的建模分析方法与优化设计 | 第23-37页 |
| 3.1 全背式电池的结构 | 第23-24页 |
| 3.2 全背接触式电池的建模分析 | 第24-27页 |
| 3.2.1 上电极对太阳能电池的影响 | 第24-25页 |
| 3.2.2 PN结结构对太阳能电池的影响 | 第25-27页 |
| 3.2.3 全背式电极接触对电池性能的影响 | 第27页 |
| 3.3 全背接触式电池的优化设计 | 第27-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 全背式薄膜电池的制备工艺的研究 | 第37-61页 |
| 4.1 全背式薄膜太阳能电池的实验方案 | 第37-38页 |
| 4.2 热氧化工艺 | 第38-42页 |
| 4.2.1 热氧化原理 | 第38-39页 |
| 4.2.2 实验过程与结果分析 | 第39-42页 |
| 4.3 光刻：定义P/N阱区 | 第42-49页 |
| 4.3.1 光刻工艺流程 | 第42-44页 |
| 4.3.2 光刻实验结果分析 | 第44-49页 |
| 4.4 高温扩散：制备PN结 | 第49-53页 |
| 4.4.1 高温扩散原理 | 第49-51页 |
| 4.4.2 高温扩散工艺参数 | 第51-53页 |
| 4.5 制备金属电极 | 第53-57页 |
| 4.5.1 光刻电极接触孔 | 第53-54页 |
| 4.5.2 蒸镀金属铝 | 第54-56页 |
| 4.5.3 刻蚀铝电极 | 第56-57页 |
| 4.6 硅片减薄技术 | 第57-60页 |
| 4.6.1 化学湿法刻蚀 | 第57-58页 |
| 4.6.2 深反应离子刻蚀 | 第58-60页 |
| 4.7 本章小结 | 第60-61页 |
| 第五章 全背式薄膜太阳能电池性能测试 | 第61-71页 |
| 5.1 平板结构薄膜太阳能电池性能研究 | 第61-62页 |
| 5.2 沉积氮化硅减反层的太阳能电池性能研究 | 第62-65页 |
| 5.2.1 PECVD沉积氮化硅薄膜 | 第62-64页 |
| 5.2.2 沉积氮化硅薄膜的太阳能电池性能测试 | 第64-65页 |
| 5.3 金字塔结构太阳能电池性能研究 | 第65-69页 |
| 5.3.1 金字塔陷光结构的制备 | 第65-68页 |
| 5.3.2 金字塔陷光结构薄膜太阳能电池性能研究 | 第68-69页 |
| 5.4 本章小结 | 第69-71页 |
| 第六章 总结与展望 | 第71-73页 |
| 6.1 论文工作总结 | 第71页 |
| 6.2 研究工作展望 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第78-79页 |
