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阻变耦合机制研究:光注入、铁电极化及超导电性

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
第一章 绪论第12-36页
    1.1 引言第12页
    1.2 阻变效应简介第12-19页
        1.2.1 阻变效应的分类第12-13页
        1.2.2 阻变效应的模型与机制第13-18页
        1.2.3 阻变存储的研究现状第18-19页
    1.3 阻变和多种物理现象的耦合第19-31页
        1.3.1 阻变与光电效应的耦合第19-23页
        1.3.2 阻变与磁性的耦合第23-26页
        1.3.3 阻变与铁电性的耦合第26-29页
        1.3.4 阻变与超导的耦合第29-31页
    1.4 选题思路与研究内容第31-33页
    参考文献第33-36页
第二章 NiO/NSTO器件电子型阻变与光注入耦合第36-54页
    2.1 前言第36-37页
    2.2 NiO/NSTO阻变器件的制备第37-38页
    2.3 NiO/NSTO阻变器件的性能第38-46页
        2.3.1 X射线光电子能谱分析第38-39页
        2.3.2 霍尔效应分析第39页
        2.3.3 X射线衍射结构分析第39-41页
        2.3.4 I-V特性分析第41-43页
        2.3.5 光注入阻变性能分析第43-46页
    2.4 NiO/NSTO器件阻变机制分析第46-50页
    2.5 本章小结第50-51页
    参考文献第51-54页
第三章 Pt/YMO/Pt器件阻变性能与机制研究第54-72页
    3.1 前言第54-55页
    3.2 Pt/YMO/Pt阻变器件的制备第55页
    3.3 Pt/YMO/Pt阻变器件的性能第55-66页
        3.3.1 结构和形貌表征第55-59页
        3.3.2 阻抗谱分析第59-60页
        3.3.3 电压源两线法测试第60-62页
        3.3.4 电流源四线法测试第62-63页
        3.3.5 I-V线性拟合第63-65页
        3.3.6 R-T曲线分析第65-66页
    3.4 Pt/YMO/Pt器件阻变机制分析第66-68页
    3.5 本章小结第68-69页
    参考文献第69-72页
第四章 YMnO_3/Nb:SrTiO_3器件阻变行为与铁电性的耦合第72-88页
    4.1 前言第72页
    4.2 YMO/NSTO阻变器件的制备第72-73页
    4.3 YMO/NSTO器件的性能第73-82页
        4.3.1 形貌与结构表征第73-75页
        4.3.2 阻抗谱表征第75页
        4.3.3 I-V性质分析第75-78页
        4.3.4 阻变性能测试第78-79页
        4.3.5 PFM分析第79-82页
    4.4 YMO/NSTO器件阻变机制分析第82-85页
    4.5 本章小结第85-86页
    参考文献第86-88页
第五章 PBCO基器件阻变与超导特性的耦合第88-108页
    5.1 前言第88-90页
    5.2 PBCO基靶材及器件的制备第90-91页
    5.3 Pt/PBCO/Pt阻变器件性能及机制分析第91-96页
        5.3.1 PBCO靶材及薄膜的XRD谱表征第91-92页
        5.3.2 Pt/PBCO/Pt器件的I-V性质分析第92-93页
        5.3.3 Pt/PBCO/Pt器件阻变机制分析第93-96页
    5.4 PBCO/NSTO器件的阻变与超导的耦合第96-104页
        5.4.1 PBCO/NSTO的XRD谱分析第96页
        5.4.2 PBCO/NSTO的I-V性质分析第96-99页
        5.4.3 PBCO/NSTO的R-T性质分析第99-104页
    5.5 本章小结第104-105页
    参考文献第105-108页
结论与展望第108-110页
博士期间发表学术论文和专利情况第110-112页
致谢第112页

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