| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 1 引言 | 第7-18页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第7页 |
| 1.2 相衬成像技术发展及特点 | 第7-13页 |
| 1.2.1 晶体干涉仪成像技术 | 第7-8页 |
| 1.2.2 衍射增强成像技术 | 第8-9页 |
| 1.2.3 相位传播成像技术 | 第9-10页 |
| 1.2.4 光栅干涉相衬成像技术 | 第10-13页 |
| 1.3 国内外发展现状 | 第13-16页 |
| 1.4 本文主要研究内容及论文结构 | 第16-18页 |
| 2 X射线光栅干涉相衬成像理论 | 第18-42页 |
| 2.1 X射线与物质的相互作用 | 第18-22页 |
| 2.2 光的传播理论 | 第22-27页 |
| 2.2.1 光的干涉 | 第23-24页 |
| 2.2.2 光的衍射 | 第24-27页 |
| 2.3 X射线光栅干涉相衬成像理论分析 | 第27-41页 |
| 2.3.1 X射线成像的图像信息 | 第27-30页 |
| 2.3.2 相光栅Talbot效应 | 第30-34页 |
| 2.3.3 样品相位信息的获取 | 第34-38页 |
| 2.3.4 源光栅调制波场的空间相干性 | 第38-41页 |
| 2.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 3 光栅Talbot效应的模拟研究 | 第42-65页 |
| 3.1 菲涅耳衍射的三种常用算法 | 第42-45页 |
| 3.1.1 傅立叶变换算法 | 第42-43页 |
| 3.1.2 卷积算法 | 第43-44页 |
| 3.1.3 角谱重建算法 | 第44-45页 |
| 3.2 光栅干涉相衬成像的数值程序简介 | 第45-46页 |
| 3.3 条纹可见度 | 第46-47页 |
| 3.4 相干X射线的光栅Talbot效应模拟 | 第47-55页 |
| 3.4.1 平面波的光栅Talbot效应 | 第47-50页 |
| 3.4.2 理想相光栅的Talbot效应 | 第50-53页 |
| 3.4.3 实际相光栅的Talbot效应 | 第53-55页 |
| 3.5 非相干X射线的光栅Talbot效应模拟及条纹可见度分析 | 第55-63页 |
| 3.5.1 源光栅在成像系统中的作用 | 第56-58页 |
| 3.5.2 研究单色非相干X射线下条纹可见度的影响因素 | 第58-61页 |
| 3.5.3 研究多色X射线下条纹可见度的影响因素 | 第61-63页 |
| 3.6 本章小结 | 第63-65页 |
| 4 X射线光栅干涉相衬成像模拟及系统设计 | 第65-73页 |
| 4.1 X射线光栅干涉相衬成像模拟 | 第65-69页 |
| 4.2 X射线光栅干涉相衬成像系统设计 | 第69-73页 |
| 5 总结和展望 | 第73-75页 |
| 5.1 总结 | 第73-74页 |
| 5.2 展望 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 附录 | 第80-93页 |