| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| ·滴状冷凝相变现象 | 第10-12页 |
| ·冷凝现象的分类 | 第10-11页 |
| ·膜状冷凝与滴状冷凝的判据 | 第11-12页 |
| ·滴状冷凝形成机理研究 | 第12-14页 |
| ·滴状冷凝的实现办法 | 第14-16页 |
| ·滴状冷凝传热的特性研究 | 第16-19页 |
| ·滴状冷凝传热过程中的重要参数 | 第16-17页 |
| ·低压蒸汽工况下滴状冷凝传热的研究 | 第17-18页 |
| ·影响滴状冷凝传热的主要因素 | 第18-19页 |
| ·超疏水界面滴状冷凝以及传热的研究现状 | 第19-24页 |
| ·超疏水界面的滴状冷凝背景 | 第19-21页 |
| ·超疏水界面滴状冷凝传热研究 | 第21-24页 |
| ·课题主要研究内容及意义 | 第24-25页 |
| ·课题主要研究内容及意义 | 第24页 |
| ·论文的创新点 | 第24-25页 |
| 第二章 探究实验参数对构筑氢氧化铜纳米针阵列的影响 | 第25-34页 |
| ·前言 | 第25-26页 |
| ·实验部分 | 第26-28页 |
| ·实验试剂和仪器设备 | 第26页 |
| ·实验步骤 | 第26-28页 |
| ·实验条件对表面的影响 | 第28-33页 |
| ·电沉积时间的影响 | 第28-29页 |
| ·电流密度的影响 | 第29-30页 |
| ·水浴温度的影响 | 第30-32页 |
| ·电解液浓度的影响 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 铜试样氢氧化铜纳米针阵列的构筑和滴状冷凝传热实验 | 第34-43页 |
| ·铜试样氢氧化铜纳米针阵列的构筑 | 第34-37页 |
| ·实验试剂和仪器设备 | 第34-35页 |
| ·铜试样表面氢氧化铜纳米针阵列的构筑 | 第35-37页 |
| ·传热性能的实验流程装置及原理 | 第37-39页 |
| ·传热数据处理方法 | 第39-41页 |
| ·数据处理 | 第39-40页 |
| ·误差分析 | 第40-41页 |
| ·热学数据的分析 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 低压下液滴在氢氧化铜纳米针阵列结构的形态和动态行为研究 | 第43-57页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·蒸汽工况下冷凝液滴在纳米针阵列结构下的形态 | 第44-45页 |
| ·实验图像处理方法 | 第45-46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-56页 |
| ·液滴在光滑以及纳米界面的CCD图像以及分析 | 第46-48页 |
| ·不同过冷度下液滴在两种界面下的CCD图像和分析 | 第48-53页 |
| ·结合热学实验数据进行分析 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 全文总结 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
