| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 插图 | 第12-23页 |
| 表格 | 第23-25页 |
| 第一章 绪论 | 第25-39页 |
| ·涨落与宏观量子效应 | 第25-27页 |
| ·现有的宏观量子系统 | 第27-33页 |
| ·超导系统 | 第27-29页 |
| ·液氦超流 | 第29-30页 |
| ·原子和自旋系综 | 第30-31页 |
| ·纳米力学系统 | 第31-33页 |
| ·宏观系统中的经典及量子涨落 | 第33-35页 |
| ·宏观量子效应产生的关键技术 | 第35-36页 |
| ·本文结构 | 第36-39页 |
| 第二章 准宏观系统中的涨落一：经典噪声 | 第39-47页 |
| ·研究背景 | 第39-40页 |
| ·实验的主要方法和结果 | 第40-43页 |
| ·结论及展望 | 第43-47页 |
| 第三章 准宏观系统中的涨落二：量子噪声 | 第47-55页 |
| ·研究背景 | 第47-48页 |
| ·实验的主要方法和结果 | 第48-53页 |
| ·系统和模型 | 第48-49页 |
| ·中心自旋的自由演化衰减 | 第49-50页 |
| ·中心自旋在回波控制下的退相干 | 第50-52页 |
| ·中心自旋在高阶动力学去耦控制下的退相干 | 第52-53页 |
| ·结论及展望 | 第53-55页 |
| 第四章 室温下力探测平台搭建 | 第55-61页 |
| ·纳米机械振子的基本特性 | 第55-56页 |
| ·系统的相关技术 | 第56-61页 |
| ·真空系统 | 第56-57页 |
| ·隔震系统 | 第57页 |
| ·光纤干涉仪 | 第57-61页 |
| 第五章 宏观线性系统的涨落：实现高精度位移测量 | 第61-69页 |
| ·研究背景 | 第61-62页 |
| ·实验的主要方法和结果 | 第62-65页 |
| ·结论及展望 | 第65-69页 |
| 第六章 低温力探测平台搭建 | 第69-79页 |
| ·系统技术细节 | 第69-73页 |
| ·低温真空和超导磁体 | 第69-70页 |
| ·隔震系统 | 第70页 |
| ·电子学信号传输 | 第70-71页 |
| ·静电问题与防护 | 第71-73页 |
| ·利用磁驱动测量双端纳米机械振子的振动 | 第73-75页 |
| ·基本理论 | 第73-74页 |
| ·实验线路 | 第74-75页 |
| ·利用电子迁移制作量子点接触 | 第75-79页 |
| ·纳米加工机械振子样品 | 第75-76页 |
| ·反馈控制电子迁移过程 | 第76-79页 |
| 第七章 宏观非线性系统的涨落：实现超高的力学非线性 | 第79-89页 |
| ·力学非线性产生的物理图像 | 第79-81页 |
| ·研究背景 | 第81页 |
| ·实验的主要方法和结果 | 第81-85页 |
| ·结论及展望 | 第85-89页 |
| 第八章 总结与展望 | 第89-97页 |
| ·本论文主要工作简要总结 | 第90-91页 |
| ·量子效应到底能有多宏观：从不同的角度看 | 第91-92页 |
| ·纳米机械系统宏观量子效应的潜在应用 | 第92-97页 |
| ·基于机械系统的量子干涉仪 | 第92-93页 |
| ·量子计算和量子信息 | 第93-97页 |
| 结语 | 第97-99页 |
| 参考文献 | 第99-123页 |
| 附录A 通过非线性产生宏观量子效应 | 第123-129页 |
| A.1 经典与量子振子的运动方程对比 | 第123-124页 |
| A.2 产生量子效应的条件 | 第124-125页 |
| A.3 如何探测宏观量子效应 | 第125-129页 |
| 附录B 基于LZ的量子相干振荡 | 第129-135页 |
| B.1 背景 | 第129页 |
| B.2 主要结果 | 第129-134页 |
| B.3 结论和应用 | 第134-135页 |
| 附录C 量子输入-输出理论推导 | 第135-145页 |
| C.1 量子输入-输出理论 | 第135-141页 |
| C.2 振子D的测量反作用 | 第141页 |
| C.3 弱力探测的应用 | 第141-143页 |
| C.4 静电力实现参数耦合 | 第143-145页 |
| 附录D 非线性实验中的理论细节和纳米加工流程 | 第145-153页 |
| D.1 密度泛函理论计算化学键理学性质 | 第145-147页 |
| D.1.1 密度泛函理论计算方法和结果 | 第145-146页 |
| D.1.2 长程相互作用修正 | 第146-147页 |
| D.2 纳米加工流程 | 第147-153页 |
| D.2.1 紫外光刻 | 第147-148页 |
| D.2.2 电子束光刻 | 第148-153页 |
| 致谢 | 第153-155页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第155-156页 |