| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-25页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·多弧离子镀技术概述 | 第11-15页 |
| ·多弧离子镀的基本结构与沉积原理 | 第11-13页 |
| ·多弧离子镀技术特点 | 第13-14页 |
| ·多弧离子镀技术的应用 | 第14-15页 |
| ·薄膜形成原理 | 第15-17页 |
| ·氮化物膜层发展概述 | 第17-22页 |
| ·二元氮化物薄膜 | 第18页 |
| ·多元氮化物薄膜 | 第18-21页 |
| ·多元多层和梯度薄膜 | 第21-22页 |
| ·本课题的提出 | 第22-24页 |
| ·本课题的技术路线 | 第24-25页 |
| 第2章 实验设备与实验方法 | 第25-36页 |
| ·实验基体材料的选取及预处理 | 第25-26页 |
| ·基体材料的选取 | 第25-26页 |
| ·基体材料表面预处理 | 第26页 |
| ·实验靶材的选取 | 第26-27页 |
| ·沉积工艺与方法 | 第27-36页 |
| ·镀膜设备简介 | 第27-28页 |
| ·沉积工艺参数 | 第28-33页 |
| ·实验方法 | 第33-36页 |
| 第3章TiN/TiCrN中间层的检测与选择 | 第36-45页 |
| ·表面形貌 | 第36-38页 |
| ·检测方法 | 第36-37页 |
| ·检测结果与分析 | 第37-38页 |
| ·断口形貌 | 第38-39页 |
| ·膜基结合力 | 第39-44页 |
| ·检测方法 | 第39-40页 |
| ·检测结果与分析 | 第40-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章TiN/TiCrN/TiCrAlN薄膜的检测与分析 | 第45-61页 |
| ·表面形貌 | 第45-47页 |
| ·表面成分 | 第47-49页 |
| ·断口形貌 | 第49-51页 |
| ·断口成分 | 第51-52页 |
| ·膜基结合力 | 第52-56页 |
| ·显微硬度 | 第56-59页 |
| ·检测方法 | 第56-58页 |
| ·检测结果与分析 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第5章 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 在学研究成果 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |