镁合金微弧氧化陶瓷层形成机制及工艺研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| ·研究背景 | 第9-12页 |
| ·镁合金的工程应用 | 第9-10页 |
| ·镁合金的表面处理 | 第10-12页 |
| ·阳极氧化处理 | 第12页 |
| ·微弧氧化技术 | 第12-20页 |
| ·微弧氧化技术机理 | 第12-15页 |
| ·微弧氧化的影响因素 | 第15-17页 |
| ·微弧氧化技术的特点及应用前景 | 第17-19页 |
| ·微弧氧化研究现状 | 第19-20页 |
| ·论文的研究意义和内容 | 第20-23页 |
| 第2章 试验设备及研究方法 | 第23-31页 |
| ·微弧氧化设备 | 第23-24页 |
| ·实验材料和处理工艺 | 第24-25页 |
| ·研究方法 | 第25-29页 |
| ·电解液性质的测定 | 第25-27页 |
| ·微弧氧化膜层厚度的测定方法 | 第27页 |
| ·相组成分析 | 第27页 |
| ·陶瓷层的显微组织和成分分析 | 第27-28页 |
| ·膜层的耐蚀性测试 | 第28-29页 |
| ·技术路线 | 第29-31页 |
| 第3章 镁合金微弧氧化过程的研究 | 第31-47页 |
| ·微弧氧化机理的探索研究 | 第31-35页 |
| ·微弧产生机理的探讨试验 | 第31-33页 |
| ·微弧氧化成膜机理的探讨试验 | 第33-35页 |
| ·电解液性质对微弧氧化的影响 | 第35-38页 |
| ·电解液的 pH 值及电导率对成膜的影响 | 第35-37页 |
| ·不同体系的电解液对微弧氧化陶瓷层的影响 | 第37-38页 |
| ·电解液成分的设计 | 第38-42页 |
| ·磷酸盐体系电解液配方的初选 | 第39-41页 |
| ·硅酸盐体系电解液配方的初选 | 第41页 |
| ·NaOH 的添加对成膜过程的影响 | 第41-42页 |
| ·超声波对微弧氧化的影响 | 第42-45页 |
| ·对微弧氧化电解液的影响 | 第43页 |
| ·对陶瓷层表面形貌的影响 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第4章 稀土盐的添加对微弧氧化的影响 | 第47-65页 |
| ·对微弧氧化工艺及放电现象的影响 | 第47-50页 |
| ·对微弧氧化陶瓷层的性能影响 | 第50-64页 |
| ·膜层的厚度 | 第50-52页 |
| ·金相观察分析 | 第52-53页 |
| ·SEM 扫描实验结果分析 | 第53-57页 |
| ·EDS 能谱分析 | 第57-59页 |
| ·XRD 相组成分析 | 第59-60页 |
| ·微弧氧化陶瓷层的电化学实验分析 | 第60-63页 |
| ·微弧氧化陶瓷层的盐水浸泡实验结果分析 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第5章 氟锆酸钾的添加对微弧氧化的影响 | 第65-80页 |
| ·氟锆酸钾浓度对陶瓷层厚度的影响 | 第65-66页 |
| ·氟锆酸钾浓度对微弧氧化工艺及放电现象的影响 | 第66-67页 |
| ·氟锆酸钾对微弧氧化陶瓷膜性能的影响 | 第67-79页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜的粗糙度及孔隙率的分析 | 第67-70页 |
| ·SEM 扫描实验结果分析 | 第70-76页 |
| ·EDS 能谱实验结果分析 | 第76-77页 |
| ·陶瓷层XRD 相组成分析 | 第77-78页 |
| ·微弧氧化陶瓷层的电化学实验分析 | 第78-79页 |
| ·本章小结 | 第79-80页 |
| 结论 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 作者简介 | 第87页 |
