摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
目录 | 第8-11页 |
符号说明 | 第11-15页 |
前言 | 第15-16页 |
1 文献综述 | 第16-31页 |
·引言 | 第16页 |
·有机硅产品简介 | 第16-20页 |
·有机硅性能 | 第17-18页 |
·有机硅的分类及用途 | 第18页 |
·国内外有机硅生产及市场 | 第18-20页 |
·有机硅单体的合成 | 第20-24页 |
·直接法合成有机硅单体 | 第20-22页 |
·直接法合成有机硅单体的反应机理 | 第22页 |
·直接法合成有机硅单体的反应动力学 | 第22-23页 |
·工艺条件对反应的影响 | 第23-24页 |
·温度影响 | 第23页 |
·压力影响 | 第23-24页 |
·硅粉粒度和气速 | 第24页 |
·流态化技术与发展 | 第24-25页 |
·流态化 | 第24页 |
·流化床反应器 | 第24-25页 |
·流化床的特点 | 第25页 |
·计算流体力学在流态化领域内的应用 | 第25-29页 |
·计算流体力学简介 | 第25-27页 |
·两种研究方法 | 第27-28页 |
·颗粒相动力学模型及气固相耦合化学反应的研究进展 | 第28-29页 |
·课题背景与研究内容 | 第29-31页 |
·课题背景 | 第29-30页 |
·课题研究内容 | 第30-31页 |
2 有机硅单体合成流化床反应器数值模型建立 | 第31-44页 |
·控制方程 | 第31-34页 |
·相体积分数 | 第31-32页 |
·质量守恒方程 | 第32页 |
·动量守恒方程 | 第32-33页 |
·能量守恒方程 | 第33-34页 |
·本构方程 | 第34-39页 |
·相间交换系数 | 第34-36页 |
·气相-固相交换系数 | 第34-36页 |
·固相-固相交换系数 | 第36页 |
·径向分布函数 | 第36-37页 |
·固体压力 | 第37页 |
·固体体积粘度 | 第37页 |
·固体剪切粘度 | 第37-38页 |
·碰撞粘度 | 第37-38页 |
·动力粘度 | 第38页 |
·摩擦粘度 | 第38页 |
·颗粒温度 | 第38-39页 |
·数值模拟方法的选择 | 第39-42页 |
·控制方程的离散 | 第39-40页 |
·求解器的选择 | 第40页 |
·离散格式 | 第40-41页 |
·相间压力和速度的求解方法 | 第41-42页 |
·空隙率的确定 | 第42-43页 |
·本章小结 | 第43-44页 |
3 有机硅单体合成流化床反应器动力学模型及几何模型 | 第44-53页 |
·反应过程模型 | 第44-49页 |
·动力学模型 | 第44-49页 |
·流体动力学模型 | 第49-51页 |
·数值计算方法 | 第51页 |
·本章小结 | 第51-53页 |
4 硅粉颗粒流化特性的研究 | 第53-59页 |
·有机硅单体合成流化床反应器几何模型 | 第53页 |
·网格划分 | 第53-54页 |
·初始和边界条件的设置 | 第54-55页 |
·模拟结果分析与讨论 | 第55-58页 |
·床内硅粉颗粒瞬时体积分数变化 | 第55-56页 |
·硅粉颗粒运动速度矢量图 | 第56-58页 |
·硅粉颗粒浓度随床层变化图 | 第58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
5 工艺条件对甲基氯硅烷合成反应的影响 | 第59-86页 |
·温度的影响 | 第59-64页 |
·温度对组分分布的影响 | 第59-63页 |
·不同温度下反应速率分布 | 第63-64页 |
·二甲基二氯硅烷选择性 | 第64页 |
·压力的影响 | 第64-71页 |
·压力对组分分布的影响 | 第65-69页 |
·不同压力下反应速率分布 | 第69-70页 |
·二甲基二氯硅烷选择性 | 第70-71页 |
·速度影响 | 第71-77页 |
·速度对组分分布的影响 | 第71-73页 |
·不同速度下反应速率分布 | 第73-76页 |
·二甲基二氯硅烷选择性 | 第76-77页 |
·床层高度影响 | 第77-81页 |
·床层高度对组分分布的影响 | 第77-79页 |
·不同床层高度下反应速率分布 | 第79-80页 |
·二甲基二氯硅烷选择性 | 第80-81页 |
·硅粉颗粒粒径影响 | 第81-84页 |
·颗粒粒径对组分分布的影响 | 第81-84页 |
·不同颗粒粒径下反应速率分布 | 第84页 |
·二甲基二氯硅烷选择性 | 第84页 |
·本章小结 | 第84-86页 |
结论与展望 | 第86-88页 |
参考文献 | 第88-93页 |
致谢 | 第93-94页 |
攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第94-95页 |