| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·引言 | 第9-12页 |
| ·磁记录的基本原理及硬盘介质膜层结构 | 第12-13页 |
| ·磁记录的基本原理 | 第12-13页 |
| ·硬盘介质的膜层结构 | 第13页 |
| ·磁记录技术的当前发展与前景展望 | 第13-17页 |
| ·纵向磁记录 | 第13-14页 |
| ·垂直磁记录 | 第14-15页 |
| ·磁光记录 | 第15-16页 |
| ·光磁混合记录技术及其存储介质研究进展 | 第16-17页 |
| ·本论文的探究思路和工作安排 | 第17-19页 |
| 第二章 薄膜样品的制备与测试 | 第19-30页 |
| ·引言 | 第19页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第19-22页 |
| ·溅射现象 | 第19-20页 |
| ·辉光放电 | 第20页 |
| ·直流溅射原理 | 第20页 |
| ·射频溅射原理 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射工作原理 | 第21-22页 |
| ·磁控溅射仪 | 第22-23页 |
| ·制备薄膜样品 | 第23-25页 |
| ·清洗基片 | 第23-24页 |
| ·制备样品 | 第24-25页 |
| ·分析测试薄膜样品 | 第25-30页 |
| ·样品的厚度-台阶仪测定测量 | 第25-26页 |
| ·样品的结构-X射线衍射分析(XRD)测量 | 第26-27页 |
| ·样品的磁学性能-振动样品磁强计(VSM)测量 | 第27-28页 |
| ·样品的磁光克尔效应-磁光特性测试仪测量 | 第28-30页 |
| 第三章 GdCo薄膜的制备及性能研究 | 第30-36页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·实验 | 第30-31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-34页 |
| ·溅射气压对GdCo单层膜磁性能的影响 | 第31-32页 |
| ·膜厚对GdCo单层膜磁性能的影响 | 第32-33页 |
| ·溅射功率对GdCo单层膜磁性能的影响 | 第33-34页 |
| ·退火对GdCo单层膜表面应力的影响 | 第34页 |
| ·本章小结 | 第34-36页 |
| 第四章 GdCo/TbFeCo双层膜的制备及性能研究 | 第36-43页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·实验 | 第36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-42页 |
| ·基片温度对GdCo/TbFeCo双层膜磁光性能的影响 | 第36-37页 |
| ·靶基距对GdCo/TbFeCo双层膜磁光性能的影响 | 第37-38页 |
| ·制备气压对GdCo/TbFeCo双层膜磁光性能的影响 | 第38-39页 |
| ·制备功率对GdCo/TbFeCo双层膜磁光性能的影响 | 第39-40页 |
| ·薄膜厚度对GdCo/TbFeCo双层膜磁光性能的影响 | 第40-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第五章 总结与展望 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 致谢 | 第49页 |
