| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-13页 |
| 第1章 前言 | 第13-37页 |
| ·青蒿素 | 第13-17页 |
| ·概述 | 第13页 |
| ·青蒿素的结构和理化性质 | 第13-14页 |
| ·青蒿素的化学性质与反应 | 第14-15页 |
| ·青蒿素的药用功能 | 第15-16页 |
| ·青蒿素的来源 | 第16页 |
| ·青蒿素的提取方法 | 第16-17页 |
| ·分子印迹技术 | 第17-27页 |
| ·概述 | 第17页 |
| ·分子印迹的原理 | 第17-18页 |
| ·分子印迹技术的原料 | 第18-21页 |
| ·分子印迹聚合物的制备方法 | 第21-24页 |
| ·分子印迹技术的应用 | 第24-27页 |
| ·超临界流体技术 | 第27-35页 |
| ·超临界流体的性质 | 第27-28页 |
| ·超临界流体的选择 | 第28-30页 |
| ·超临界CO_2溶解性能 | 第30-31页 |
| ·溶解度模型 | 第31-34页 |
| ·超临界CO_2萃取技术的应用 | 第34-35页 |
| ·本课题研究的主要目的、意义及内容 | 第35-37页 |
| ·目的和意义 | 第35-36页 |
| ·主要内容 | 第36-37页 |
| 第2章 青蒿素及其结构类似物的分析检测方法 | 第37-44页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·实验材料 | 第37-38页 |
| ·实验试剂 | 第37-38页 |
| ·实验仪器 | 第38页 |
| ·高效液相色谱紫外检测法(HPLC-UV) | 第38-41页 |
| ·直接检测法 | 第38-41页 |
| ·柱前衍生法 | 第41页 |
| ·紫外分光光度法 | 第41-43页 |
| ·标准曲线的制备 | 第41-42页 |
| ·实验取样的检测 | 第42-43页 |
| ·薄层层析法(TLC) | 第43页 |
| ·层析条件 | 第43页 |
| ·检测方法 | 第43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第3章 多孔硅胶表面青蒿素分子印迹聚合物的制备及其表征 | 第44-58页 |
| ·引言 | 第44-45页 |
| ·实验材料 | 第45-46页 |
| ·实验试剂 | 第45页 |
| ·实验仪器 | 第45-46页 |
| ·实验方法 | 第46-49页 |
| ·硅胶的活化 | 第46-47页 |
| ·硅胶的修饰(硅烷化) | 第47页 |
| ·硅胶硅烷化程度的检测(高锰酸钾滴定法) | 第47-48页 |
| ·青蒿素分子印迹聚合物的制备 | 第48-49页 |
| ·非印迹聚合物的制备 | 第49页 |
| ·结果与讨论 | 第49-56页 |
| ·青蒿素分子印迹聚合物的制备 | 第49-50页 |
| ·硅胶硅烷化的检测 | 第50-51页 |
| ·分子印迹聚合物(印迹硅胶)的表征 | 第51-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第4章 青蒿素分子印迹聚合物在常温常压下的吸附分离行为 | 第58-74页 |
| ·引言 | 第58页 |
| ·实验材料 | 第58-59页 |
| ·实验试剂 | 第58-59页 |
| ·实验仪器 | 第59页 |
| ·实验和计算方法 | 第59-61页 |
| ·吸附动力学曲线的测定 | 第59-60页 |
| ·吸附等温线的测定 | 第60-61页 |
| ·选择性吸附的测定 | 第61页 |
| ·结果与讨论 | 第61-73页 |
| ·吸附动力学曲线 | 第61-63页 |
| ·吸附动力学模型关联 | 第63-66页 |
| ·吸附等温线 | 第66-67页 |
| ·吸附等温线模型关联 | 第67-70页 |
| ·选择性吸附 | 第70-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 第5章 青蒿素在超临界CO_2中溶解度的测定及模型关联 | 第74-89页 |
| ·引言 | 第74页 |
| ·实验材料 | 第74-76页 |
| ·实验试剂 | 第74页 |
| ·实验仪器 | 第74-76页 |
| ·实验和计算方法 | 第76-77页 |
| ·实验方法 | 第76-77页 |
| ·溶解度的计算 | 第77页 |
| ·实验结果与讨论 | 第77-88页 |
| ·青蒿素在超临界CO_2中的溶解度 | 第77-81页 |
| ·溶解度模型关联 | 第81-88页 |
| ·本章小结 | 第88-89页 |
| 第6章 青蒿素分子印迹聚合物在超临界CO_2中的吸附分离行为 | 第89-100页 |
| ·引言 | 第89页 |
| ·实验材料 | 第89-90页 |
| ·实验试剂 | 第89-90页 |
| ·实验仪器 | 第90页 |
| ·实验方法 | 第90-92页 |
| ·印迹聚合物在超临界CO_2中吸附过程的测定 | 第90-92页 |
| ·印迹聚合物在超临界CO_2中分离行为的测定 | 第92页 |
| ·实验结果和讨论 | 第92-99页 |
| ·印迹聚合物在超临界CO_2中的吸附行为 | 第92-95页 |
| ·印迹聚合物在超临界CO_2中吸附过程的模型关联 | 第95-97页 |
| ·印迹聚合物在超临界CO_2中的分离行为 | 第97-98页 |
| ·印迹聚合物在常温常压和超临界条件下的吸附分离行为的比较 | 第98-99页 |
| ·本章小结 | 第99-100页 |
| 第7章 结论与展望 | 第100-103页 |
| 参考文献 | 第103-111页 |
| 致谢 | 第111-112页 |
| 攻读博士学位期间取得的成果 | 第112页 |
