磁光椭偏仪的研究
中文摘要 | 第1-9页 |
ABSTRACT | 第9-11页 |
第一章 引言 | 第11-17页 |
·椭偏仪技术发展历程及种类 | 第11-14页 |
·磁光椭偏的发展历程 | 第14-15页 |
·本论文的主要研究内容 | 第15-17页 |
第二章 磁光椭偏理论基础 | 第17-41页 |
·椭偏测量原理 | 第17-22页 |
·磁光克尔效应 | 第22-30页 |
·磁光椭偏理论分析 | 第30-39页 |
·广义磁光椭偏(GSM)理论 | 第31-37页 |
·横向、纵向、极向磁光椭偏理论 | 第37-39页 |
·小结 | 第39-41页 |
第三章 磁光椭偏仪实验系统研究 | 第41-49页 |
·光路系统 | 第41-43页 |
·磁场系统 | 第43-44页 |
·信号处理系统 | 第44-48页 |
·小结 | 第48-49页 |
第四章 砷化镓外延纳米铁膜的磁光椭偏研究 | 第49-56页 |
·样品制备 | 第49页 |
·表面磁光克尔效应实验结果及分析 | 第49-53页 |
·不同厚度保护层对克尔偏转角的影响 | 第49-51页 |
·不同覆盖层对克尔偏转角的影响 | 第51-53页 |
·磁光椭偏研究的实验与结果分析 | 第53-55页 |
·小结 | 第55-56页 |
第五章 全文总结及展望 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
攻读硕士学位期间的成果及获得的奖励 | 第62-63页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第63页 |