| 摘要 | 第1-16页 |
| ABSTRACT | 第16-19页 |
| 第一章 绪论 | 第19-47页 |
| ·氨(胺)烃基聚硅氧烷 | 第19-22页 |
| ·氨烃基聚硅氧烷的研究进展 | 第20页 |
| ·氨烃基聚硅氧烷的合成 | 第20-22页 |
| ·超分子化学 | 第22-24页 |
| ·自组装 | 第23-24页 |
| ·金属-配体作用下的超分子自组装 | 第23页 |
| ·π-π堆积下的超分子自组装 | 第23-24页 |
| ·聚硅氧烷的超分子自组装行为 | 第24-37页 |
| ·基于稀土-聚硅氧烷配体的自组装 | 第24-29页 |
| ·简介 | 第24页 |
| ·稀土-高分子发光材料的制备 | 第24-29页 |
| ·基于花酰亚胺π-π相互作用的超分子化合物 | 第29-37页 |
| ·简介 | 第29-30页 |
| ·花酰亚胺衍生物的合成研究 | 第30-33页 |
| ·花酰亚胺类衍生物的应用 | 第33-37页 |
| ·课题的研究意义和主要内容 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-47页 |
| 第二章 端氨丙基聚硅氧烷的制备 | 第47-54页 |
| ·前言 | 第47页 |
| ·实验部分 | 第47-48页 |
| ·原料与试剂 | 第47-48页 |
| ·测试仪器 | 第48页 |
| ·红外光谱(FT-IR)分析 | 第48页 |
| ·核磁共振谱分析 | 第48页 |
| ·端氨丙基聚硅氧烷的合成 | 第48-50页 |
| ·合成路线 | 第48-49页 |
| ·丙烯胺的保护 | 第49页 |
| ·α,ω-氮丙基二硅氧烷的合成 | 第49页 |
| ·端氨丙基聚硅氧烷(ATP)的合成 | 第49-50页 |
| ·结果与讨论 | 第50-52页 |
| ·红外光谱分析 | 第50-51页 |
| ·核磁共振谱图 | 第51-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |
| 第三章 稀土-聚硅氧烷发光材料的制备 | 第54-74页 |
| ·前言 | 第54-55页 |
| ·实验部分 | 第55-59页 |
| ·原料与试剂 | 第55-56页 |
| ·测试仪器 | 第56-57页 |
| ·红外光谱(FT-IR)分析 | 第56页 |
| ·核磁共振谱分析 | 第56页 |
| ·紫外可见分光光度计 | 第56页 |
| ·荧光分析(PL) | 第56-57页 |
| ·差示扫描热分析 | 第57页 |
| ·X光电子能谱仪(XPS) | 第57页 |
| ·CFD及CTP的合成 | 第57-59页 |
| ·合成路线 | 第57-58页 |
| ·α,ω-N-丙乙酰氨基丙酸基二硅氧烷(CFD)的制备 | 第58-59页 |
| ·α,ω-N-丙乙酰氨基丙酸基聚硅氧烷的合成(CTP)的合成 | 第59页 |
| ·稀土-CFD配合物(Ln-CFD)与稀土-CTP配合物(Ln-CTP)的合成 | 第59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-68页 |
| ·红外光谱分析 | 第60-61页 |
| ·荧光谱图分析 | 第61-64页 |
| ·DSC与变温红外 | 第64-66页 |
| ·X-光电子能谱 | 第66-68页 |
| ·小结 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-74页 |
| 第四章 苝四羧酸酐改性聚硅氧烷的合成及性能研究 | 第74-108页 |
| ·前言 | 第74页 |
| ·实验部分 | 第74-103页 |
| ·原料与试剂 | 第74-103页 |
| 第一节 苝四酸酐封端聚硅氧烷的合成及性能研究 | 第75-86页 |
| ·研究背景 | 第75-76页 |
| ·实验部分 | 第76-85页 |
| ·仪器及测试方法 | 第76-77页 |
| ·红外光谱(FT-IR)分析 | 第76-77页 |
| ·核磁共振谱分析 | 第77页 |
| ·紫外可见分光光度计 | 第77页 |
| ·荧光分析(PL) | 第77页 |
| ·X-射线衍射 | 第77页 |
| ·SEM | 第77页 |
| ·苝四羧酸酐封端聚硅氧烷(PECP)及双(7,10-二苯基-荧蒽)甲基苯基硅烷(BFMPS)的合成 | 第77-79页 |
| ·合成路线图 | 第78页 |
| ·花四羧酸酐封端聚硅氧烷(PECP)的合成 | 第78-79页 |
| ·双(7,10-二苯基-荧蒽)甲基苯基硅烷(BFMPS)的合成 | 第79页 |
| ·结果与讨论 | 第79-85页 |
| ·红外光谱分析 | 第79-80页 |
| ·紫外与荧光光谱分析 | 第80-81页 |
| ·XRD分析 | 第81-82页 |
| ·SEM分析 | 第82-83页 |
| ·光调控 | 第83-85页 |
| ·小结 | 第85-86页 |
| 第二节 苝二酰亚胺桥联聚硅氧烷的合成及其应用 | 第86-103页 |
| ·前言 | 第86-87页 |
| ·实验部分 | 第87-102页 |
| ·仪器及测试方法 | 第87-89页 |
| ·红外光谱(FT-IR)分析 | 第87页 |
| ·核磁共振谱分析 | 第87页 |
| ·紫外可见分光光度计 | 第87页 |
| ·荧光分析(PL) | 第87-88页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第88页 |
| ·差示扫描热分析 | 第88页 |
| ·热重分析 | 第88页 |
| ·电化学阻抗谱 | 第88页 |
| ·电化学实验装置 | 第88-89页 |
| ·苝二酰亚胺的含硅衍生物的合成 | 第89-91页 |
| ·合成路线 | 第89页 |
| ·苝二酰亚胺桥联聚硅氧烷(PCTP)的合成 | 第89-90页 |
| ·含苝二酰亚胺的硅烷偶联剂(PSCA)的合成 | 第90页 |
| ·电极的制备 | 第90页 |
| ·自组装膜的制备及电解质溶液的配制 | 第90-91页 |
| ·结果与讨论 | 第91-102页 |
| ·红外光谱分析 | 第91-92页 |
| ·紫外与荧光测试 | 第92-95页 |
| ·热降解 | 第95-96页 |
| ·差示扫描热分析 | 第96-97页 |
| ·扫描电镜 | 第97-99页 |
| ·电化学阻抗谱 | 第99-102页 |
| ·小结 | 第102-103页 |
| 参考文献 | 第103-108页 |
| 第五章 含花四羧酸酐衍生物修饰聚硅氧烷的合成,表征及应用研究 | 第108-128页 |
| ·前言 | 第108页 |
| ·实验部分 | 第108-123页 |
| ·原料与试剂 | 第109页 |
| ·仪器及测试方法 | 第109-111页 |
| ·红外光谱(FT-IR)分析 | 第109-110页 |
| ·核磁共振谱分析 | 第110页 |
| ·热重分析 | 第110页 |
| ·紫外可见分光光度计 | 第110页 |
| ·荧光光谱 | 第110页 |
| ·差示扫描热分析 | 第110页 |
| ·偏光显微镜 | 第110-111页 |
| ·X-射线衍射 | 第111页 |
| ·小角X-射线散射 | 第111页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第111页 |
| ·原子力显微镜 | 第111页 |
| ·静态接触角 | 第111页 |
| ·含苝四羧酸酐衍生物的聚硅氧烷(PDMP)合成 | 第111-113页 |
| ·合成路线 | 第112页 |
| ·3,4,9,10-四十二酯基苝(PTDC)的合成 | 第112-113页 |
| ·9,10-二十二烷基酯-3,4-苝酐(PADC)的合成 | 第113页 |
| ·苝酐衍生物改性聚硅氧烷(PDMP) | 第113页 |
| ·结果与讨论 | 第113-123页 |
| ·热重分析 | 第114-115页 |
| ·紫外与荧光 | 第115-116页 |
| ·差示扫描热分析(DSC) | 第116-117页 |
| ·偏光显微镜(POM) | 第117-118页 |
| ·X-射寸线衍射(XRD)及小角X-射寸线射测试(SAXS) | 第118-119页 |
| ·原子力显微镜(AFM)及扫描电镜(SEM) | 第119-122页 |
| ·接触角 | 第122-123页 |
| ·小结 | 第123-124页 |
| 参考文献 | 第124-128页 |
| 第六章 结论 | 第128-130页 |
| 致谢 | 第130-131页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第131-133页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第133-135页 |
| 附录 | 第135-146页 |
