| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-21页 |
| ·材料表面的疏水性能及应用 | 第10-16页 |
| ·材料表面的疏水性 | 第10-12页 |
| ·超疏水表面的构建 | 第12-14页 |
| ·超疏水材料自清洁功能的应用 | 第14-15页 |
| ·超疏水材料减阻功能的应用 | 第15-16页 |
| ·微流体系统简介 | 第16-19页 |
| ·微流体系统的发展 | 第16页 |
| ·微流体系统的特点 | 第16-17页 |
| ·微流体系统的材料 | 第17页 |
| ·微流体系统的加工技术 | 第17-19页 |
| ·本论文采用的超疏水表面制备方法 | 第19页 |
| ·研究内容及意义 | 第19-21页 |
| ·研究内容 | 第19-20页 |
| ·研究意义 | 第20-21页 |
| 第2章 实验方法 | 第21-27页 |
| ·实验材料 | 第21页 |
| ·实验材料的制备 | 第21-24页 |
| ·硅表面微结构的制备 | 第21-22页 |
| ·低表面能物质修饰实验材料 | 第22-24页 |
| ·试样表面性能的表征 | 第24-27页 |
| ·表面接触角的测量 | 第24-25页 |
| ·三维形貌的测量 | 第25页 |
| ·表面微形貌的测试 | 第25-26页 |
| ·试样摩擦减阻效应的测试 | 第26-27页 |
| 第3章 自组装分子膜与表面结构对单晶硅表面润湿性能的影响 | 第27-42页 |
| ·超疏水表面润湿性能的理论基础 | 第27-30页 |
| ·Young's方程 | 第27页 |
| ·Wenzel模型 | 第27-29页 |
| ·Cassie模型 | 第29-30页 |
| ·试样表面微结构 | 第30-33页 |
| ·试样表面微结构的加工 | 第30-32页 |
| ·自组装分子膜形貌的表征 | 第32-33页 |
| ·表面形貌和自组装分子膜对硅基底润湿性的影响 | 第33-41页 |
| ·试样表面接触角测量 | 第33-34页 |
| ·试样表面的接触角与纹理间距的关系 | 第34-39页 |
| ·不同自组装分子膜对试样表面润湿性的影响 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 紫外照射对FOTS改性硅基底减摩效应的影响 | 第42-51页 |
| ·概述 | 第42页 |
| ·紫外照射对试样表面润湿性的影响 | 第42-43页 |
| ·自组装分子膜的减摩效应 | 第43-47页 |
| ·速度和载荷对硅基底摩擦系数的影响 | 第43-45页 |
| ·滑动速度对FOTS减摩效应的影响 | 第45-46页 |
| ·载荷对FOTS减摩效应的影响 | 第46-47页 |
| ·紫外照射对自组装分子膜减摩效应的影响 | 第47-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第5章 基于Fluent超疏水微通道减阻特性的数值模拟 | 第51-61页 |
| ·壁面滑移现象及其对微尺度流动的影响 | 第51-52页 |
| ·基于Fluent模拟超疏水微通道减阻的理论基础 | 第52-54页 |
| ·Fluent软件简介 | 第52页 |
| ·边界条件的设置 | 第52-54页 |
| ·基于Fluent数值模拟的参数设置 | 第54-55页 |
| ·前置软件Gambit的设置 | 第54页 |
| ·Fluent模拟参数设置 | 第54-55页 |
| ·超疏水微通道减阻的数值模拟 | 第55-60页 |
| ·流速对滑移减阻效果的影响 | 第56-58页 |
| ·微通道纹理间距对速度滑移的影响 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第6章 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
