| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 导言 | 第10-12页 |
| 第一章 集成电路布图设计及其法律保护 | 第12-18页 |
| 第一节 集成电路与布图设计 | 第12-15页 |
| 一、集成电路的概念及历史发展 | 第12-13页 |
| 二、集成电路的应用价值 | 第13-14页 |
| 三、布图设计及其技术特征 | 第14-15页 |
| 第二节 我国集成电路的发展及法律保护现状 | 第15-18页 |
| 一、我国集成电路发展现状 | 第16页 |
| 二、集成电路法律保护的必要性分析 | 第16-17页 |
| 三、我国集成电路的司法保护现状及困惑 | 第17-18页 |
| 第二章 集成电路布图设计复制侵权判定标准 | 第18-25页 |
| 第一节 集成电路的制作过程及侵权特点 | 第18-20页 |
| 一、集成电路制作过程 | 第19页 |
| 二、从制作过程分析复制侵权特点 | 第19-20页 |
| 第二节 从侵权特点分析复制侵权方式及判定意义 | 第20-22页 |
| 一、复制侵权的侵权方式 | 第20-21页 |
| 二、判定复制侵权的实践意义 | 第21-22页 |
| 第三节 复制侵权的判定标准－－实质性相似标准 | 第22-25页 |
| 一、布鲁克公司诉超微设备电子有限公司案的启发 | 第22-24页 |
| 二、实质性相似标准在布鲁克诉超微案中的应用 | 第24-25页 |
| 第三章 复制侵权的抗辩事由---反向工程的判定标准 | 第25-42页 |
| 第一节 反向工程的立法实践 | 第25-30页 |
| 一、反向工程的意义 | 第25-26页 |
| 二、国外立法对反向工程的规定 | 第26-28页 |
| 三、我国对反向工程的立法规定 | 第28页 |
| 四、对我国及国外对反向工程立法规定的总结 | 第28-30页 |
| 第二节 反向工程成立标准---即第二布图设计独创性认定标准 | 第30-42页 |
| 一、辛苦和投资标准的独创性判断（即额头流汗标准） | 第30-34页 |
| 二、实质不相同标准的独创性判断 | 第34-36页 |
| 三、兼用标准的独创性判断 | 第36-40页 |
| 四、功能进步标准的独创性判断 | 第40页 |
| 五、性能优化标准的独创性判断 | 第40-41页 |
| 六、小结 | 第41-42页 |
| 第四章 集成电路布图设计复制侵权的司法认定 | 第42-46页 |
| 第一节、复制侵权判定标准与反向工程判定标准的关系 | 第42-43页 |
| 第二节、复制侵权的司法认定标准的可选择性 | 第43页 |
| 第三节、我国集成电路布图设计司法认定标准的完善建议 | 第43-46页 |
| 结语 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-51页 |
| 后记 | 第51-52页 |
