纳米压印技术及其在金属光栅偏振分束器和半导体激光器上的应用
| 中文摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-29页 |
| ·微纳米加工技术 | 第13-14页 |
| ·纳米压印技术介绍 | 第14-22页 |
| ·热压印技术 | 第15-17页 |
| ·紫外固化压印技术 | 第17-19页 |
| ·微接触印刷法 | 第19-20页 |
| ·激光辅助直接压印技术 | 第20-22页 |
| ·纳米压印技术发展的关键 | 第22-25页 |
| ·压印光刻胶的选择 | 第22页 |
| ·压印温度的控制 | 第22-23页 |
| ·模板与基片平行度与压力的均匀性 | 第23页 |
| ·压印脱模工艺控制 | 第23-24页 |
| ·压印模板的制作与寿命 | 第24-25页 |
| ·纳米压印技术的应用 | 第25-26页 |
| ·纳米压印技术发展现状 | 第26-27页 |
| ·本文研究的主要内容及意义 | 第27-29页 |
| 第二章 纳米压印模板的制备研究 | 第29-39页 |
| ·刻蚀技术介绍 | 第29-32页 |
| ·硅压印模板制作技术研究 | 第32-33页 |
| ·石英压印模板制作技术研究 | 第33-37页 |
| ·小结 | 第37-39页 |
| 第三章 掩埋型金属纳米光栅偏振分束器 | 第39-59页 |
| ·掩埋型金属纳米光栅设计 | 第39-48页 |
| ·金属光栅偏振特性理论分析模型 | 第40-42页 |
| ·掩埋型金属光栅偏振器结构设计 | 第42-48页 |
| ·掩埋型金属纳米光栅的制作 | 第48-52页 |
| ·纳米光栅特性测试分析 | 第52-57页 |
| ·测试原理与测试平台 | 第52-54页 |
| ·测试结果与讨论 | 第54-57页 |
| ·小结 | 第57-59页 |
| 第四章 1310nm高速无致冷DFB半导体激光器 | 第59-91页 |
| ·半导体激光器的理论基础 | 第59-69页 |
| ·半导体激光器的发展历史 | 第59-60页 |
| ·半导体激光器的工作原理与基本结构 | 第60-69页 |
| ·半导体激光器的动态特性 | 第69-72页 |
| ·高速DFB半导体激光器材料与结构设计 | 第72-78页 |
| ·高速DFB半导体激光器工艺制作 | 第78-83页 |
| ·高速DFB半导体激光器特性测试 | 第83-90页 |
| ·激光器的光功率特性 | 第84-86页 |
| ·激光器的光谱特性 | 第86-88页 |
| ·激光器的远场特性 | 第88页 |
| ·激光器的频率响应特性 | 第88-90页 |
| ·小结 | 第90-91页 |
| 第五章 1550nm单片多波长DFB半导体激光器 | 第91-110页 |
| ·双光束干涉法制作DFB光栅 | 第91-95页 |
| ·多波长DFB光栅压印模板的设计与制作 | 第95-97页 |
| ·纳米压印技术制作多波长DFB光栅 | 第97-100页 |
| ·单片多波长DFB半导体激光器设计与制作 | 第100-109页 |
| ·半导体激光器芯片材料与结构设计 | 第100-102页 |
| ·半导体激光器芯片工艺制作 | 第102-107页 |
| ·半导体激光器芯片特性测试 | 第107-109页 |
| ·小结 | 第109-110页 |
| 第六章 全文总结与展望 | 第110-113页 |
| ·论文主要研究工作总结 | 第110-111页 |
| ·未来工作展望 | 第111-113页 |
| 参考文献 | 第113-127页 |
| 攻读博士学位期间发表论文及申请专利 | 第127-129页 |
| 致谢 | 第129页 |
