| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| ·β-FeSi_2的晶体结构和基本性质 | 第10-13页 |
| ·β-FeSi_2薄膜的制备方法 | 第13页 |
| ·国内外研究现状 | 第13-14页 |
| ·选题依据和本论文的内容安排 | 第14-16页 |
| 第二章 薄膜理论模型及实验装置 | 第16-22页 |
| ·薄膜生长动力学 | 第16-17页 |
| ·脉冲激光沉积技术原理 | 第17-19页 |
| ·薄膜的性能表征 | 第19-22页 |
| 第三章 不同靶材制备下的β-FeSi_2薄膜的性质比较 | 第22-32页 |
| ·在硅衬底上生长β-FeSi_2薄膜的步骤 | 第22-23页 |
| ·β-FeSi_2薄膜性质的分析 | 第23-31页 |
| ·小结 | 第31-32页 |
| 第四章 β-FeSi_2薄膜在不同的生长温度下的生长规律 | 第32-38页 |
| ·在硅衬底上生长β-FeSi_2薄膜的实验步骤 | 第32页 |
| ·实验结果及分析 | 第32-36页 |
| ·小结 | 第36-38页 |
| 第五章 不同的激光能量密度对β-FeSi_2薄膜的影响 | 第38-46页 |
| ·生长β-FeSi_2薄膜的步骤 | 第38页 |
| ·β-FeSi_2薄膜性质的分析 | 第38-43页 |
| ·小结 | 第43-46页 |
| 第六章 Si 的不同取向对β-FeSi_2薄膜的影响 | 第46-52页 |
| ·生长β-FeSi_2薄膜的步骤 | 第46页 |
| ·β-FeSi_2薄膜性质的分析 | 第46-50页 |
| ·小结 | 第50-52页 |
| 第七章 总结 | 第52-54页 |
| ·本论文的主要研究成果 | 第52-53页 |
| ·对今后研究工作的建议 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第64-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
