一维氧化亚铜的制备及其光催化性能的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| 英文摘要 | 第7-11页 |
| 1 绪论 | 第11-30页 |
| 引言 | 第11-12页 |
| ·氧化亚铜的研究综述 | 第12-19页 |
| ·氧化亚铜的基本性质 | 第12页 |
| ·氧化亚铜的制备方法 | 第12-17页 |
| ·氧化亚铜的应用前景 | 第17-19页 |
| ·半导体光催化技术 | 第19-22页 |
| ·半导体光催化机理 | 第19-20页 |
| ·半导体光催化的研究现状及其发展趋势 | 第20-22页 |
| ·一维氧化亚铜的研究现状 | 第22-25页 |
| ·一维氧化亚铜的制备方法 | 第22-23页 |
| ·一维氧化亚铜光催化性能 | 第23-25页 |
| ·表面活性剂的研究现状 | 第25-29页 |
| ·表面活性剂的结构及分类 | 第25页 |
| ·表面活性剂在溶液中的聚集行为 | 第25-27页 |
| ·CTAB的结构与性质 | 第27-29页 |
| ·研究目的及内容 | 第29-30页 |
| 2 一维氧化亚铜的制备及其表征 | 第30-43页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·实验部分 | 第30-33页 |
| ·实验仪器及药品 | 第30-31页 |
| ·一维氧化亚铜的制备 | 第31-32页 |
| ·一维氧化亚铜的表征 | 第32-33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-42页 |
| ·样品的XRD分析 | 第33-34页 |
| ·形成一维氧化亚铜的机理探讨 | 第34页 |
| ·制备条件讨论 | 第34-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 3 一维氧化亚铜的光催化性能 | 第43-52页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·实验部分 | 第43-46页 |
| ·实验仪器及药品 | 第43-44页 |
| ·实验原理 | 第44-45页 |
| ·实验过程 | 第45-46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-51页 |
| ·空白实验 | 第46-47页 |
| ·催化剂加入量及光照时间的影响 | 第47-49页 |
| ·催化剂重复使用的影响 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 4 一维氧化亚铜的氧化动力学 | 第52-64页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·测试原理 | 第52-54页 |
| ·实验部分 | 第54-56页 |
| ·一维氧化亚铜的制备 | 第54页 |
| ·氧化动力学研究 | 第54-56页 |
| ·结果与讨论 | 第56-63页 |
| ·表观活化能和指前因子 | 第56-58页 |
| ·反应级数 | 第58-59页 |
| ·重复性实验 | 第59-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 5 结论 | 第64-67页 |
| ·本论文的创新点 | 第64-66页 |
| ·下一步的工作 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
| 个人简历 | 第73页 |
| 硕士期间发表的学术论文 | 第73页 |
