| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·驻极体材料 | 第11-13页 |
| ·驻极体材料的基本效应 | 第13-14页 |
| ·选题背景和目的 | 第14-18页 |
| ·聚丙烯孔洞驻极体薄膜的研究进展 | 第15-16页 |
| ·选题依据及理论意义 | 第16-18页 |
| 第2章 样品的制备和驻极体的主要研究方法 | 第18-28页 |
| ·样品的制备 | 第18-20页 |
| ·化学处理工艺 | 第18-19页 |
| ·压力膨化处理工艺 | 第19-20页 |
| ·驻极体的主要研究方法 | 第20-28页 |
| ·样品的充电与极化 | 第20-22页 |
| ·表面电位的测量 | 第22-23页 |
| ·热刺激放电(TSD) | 第23-25页 |
| ·压电系数的测量 | 第25-28页 |
| 第3章 氢氟酸处理对聚丙烯孔洞驻极体膜储电性的改善 | 第28-42页 |
| ·非极性空间电荷驻极体薄膜的电荷储存与衰减 | 第28-30页 |
| ·聚丙烯孔洞驻极体薄膜的储电性 | 第30-35页 |
| ·TSD电流谱分析 | 第30-32页 |
| ·电荷TSD谱分析 | 第32-35页 |
| ·氢氟酸处理对聚丙烯孔洞薄膜电荷储存与稳定性的影响 | 第35-41页 |
| ·聚丙烯孔洞驻极体膜的衰减全反射红外光谱分析 | 第35-36页 |
| ·氢氟酸处理对聚丙烯孔洞驻极体膜电荷储存与稳定性的改善 | 第36-39页 |
| ·化学处理参数对聚丙烯孔洞薄膜储电性的影响 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 氢氟酸处理的聚丙烯孔洞膜的压电性及其热稳定性 | 第42-49页 |
| ·氢氟酸处理聚丙烯孔洞驻极体膜的断面元素分析 | 第43-44页 |
| ·聚丙烯孔洞驻极体膜压电热稳定性的化学改善 | 第44-45页 |
| ·氢氟酸处理聚丙烯孔洞膜压电热稳定性提高的根源 | 第45-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第5章 改善聚丙烯孔洞薄膜驻极体性质的其它氟化方法 | 第49-57页 |
| ·F_2处理对聚丙烯孔洞薄膜驻极体性质的影响 | 第49-53页 |
| ·F_2处理的PP孔洞膜的红外光谱分析 | 第49-50页 |
| ·F_2处理的PP孔洞膜的热刺激放电(TSD)分析 | 第50-52页 |
| ·F_2处理的PP孔洞驻极体膜的等温电荷衰减分析 | 第52-53页 |
| ·XeF_2处理对聚丙烯孔洞薄膜驻极体性质的影响 | 第53-56页 |
| ·XeF_2处理的PP孔洞驻极体膜的电流TSD谱分析 | 第54-55页 |
| ·XeF_2处理温度对PP孔洞驻极体膜储电性能的影响 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第6章 结论与展望 | 第57-60页 |
| ·结论 | 第57-58页 |
| ·本文创新 | 第58页 |
| ·展望 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 个人简历 在读期间发表的学术论文与研究成果 | 第65页 |
