TS-1分子筛膜的制备与表征--以TiCl_3为钛源
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-22页 |
| ·钛硅分子筛 | 第8-11页 |
| ·钛硅分子筛概述 | 第8-9页 |
| ·影响钛硅分子筛TS-1 合成的因素 | 第9-11页 |
| ·载体的选择 | 第11-14页 |
| ·载体性质对分子筛膜的影响 | 第11-13页 |
| ·载体的选择 | 第13-14页 |
| ·TS-1 分子筛膜 | 第14-19页 |
| ·TS-1 分子筛膜概述 | 第14-15页 |
| ·TS-1 分子筛膜的制备方法 | 第15-19页 |
| ·原位水热合成法 | 第15-16页 |
| ·二次生长法 | 第16-17页 |
| ·微波加热法 | 第17页 |
| ·化学气相沉积法（CVD） | 第17-18页 |
| ·脉冲激光蒸镀法(PLD) | 第18页 |
| ·电泳沉积法（EPD） | 第18页 |
| ·制备方法的评价 | 第18-19页 |
| ·TS-1 分子筛膜的应用 | 第19页 |
| ·在分离方面的应用 | 第19页 |
| ·在催化方面的应用 | 第19页 |
| ·TS-1 分子筛膜研究存在的问题及展望 | 第19-21页 |
| ·本课题的研究内容及意义 | 第21-22页 |
| 第二章 TS-1 分子筛膜表征概述 | 第22-26页 |
| ·X射线衍射仪（XRD） | 第22-23页 |
| ·环境扫描电子显微镜子（SEM） | 第23页 |
| ·傅里叶红外光谱测试仪(FT-IR) | 第23-24页 |
| ·紫外可见反射光谱测试仪(UV-VIS) | 第24页 |
| ·拉曼光谱(RAMAN) | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 TS-1 分子筛膜的制备 | 第26-31页 |
| ·载体及模板剂的制备 | 第26-27页 |
| ·试验试剂 | 第26页 |
| ·载体制备及预处理 | 第26-27页 |
| ·四丙基氢氧化铵（TPAOH）的制备及标定 | 第27页 |
| ·钛硅分子筛膜的制备 | 第27-30页 |
| ·试验试剂及设备 | 第27页 |
| ·实验过程 | 第27-30页 |
| ·TPAOH用量对钛硅分子筛膜性能的影响 | 第27-29页 |
| ·晶化时间对钛硅分子筛膜性能的影响 | 第29页 |
| ·钛硅分子筛膜的制备 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第四章 实验结果分析 | 第31-41页 |
| ·氧化铝载体的表征 | 第31-32页 |
| ·合成样品的结构判断 | 第32-33页 |
| ·晶化时间的影响 | 第33-35页 |
| ·XRD | 第33-34页 |
| ·SEM | 第34-35页 |
| ·小结 | 第35页 |
| ·TS-1 分子筛膜的物性表征 | 第35-40页 |
| ·XRD | 第35-36页 |
| ·SEM | 第36-38页 |
| ·EDXP | 第38-39页 |
| ·FT-IR | 第39-40页 |
| ·UV-VIS | 第40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第五章 结论 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-47页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48页 |
