| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-29页 |
| ·太阳能及太阳能薄膜电池 | 第11-15页 |
| ·太阳能及其特点 | 第11-12页 |
| ·太阳能薄膜电池的分类及发展 | 第12-13页 |
| ·非晶硅薄膜太阳能电池及其特点 | 第13-15页 |
| ·氢化非晶碳(a-C:H)薄膜 | 第15-21页 |
| ·历史及现状 | 第15-17页 |
| ·结构与特点 | 第17-18页 |
| ·制备方法简介 | 第18-19页 |
| ·应用情况 | 第19-21页 |
| ·氢化非晶碳化硅(a-SiC:H)薄膜 | 第21-27页 |
| ·历史及现状 | 第21-22页 |
| ·结构与特点 | 第22-24页 |
| ·制备方法简介 | 第24页 |
| ·应用情况 | 第24-27页 |
| ·本文的主要工作 | 第27-29页 |
| ·选题意义 | 第27页 |
| ·研究内容 | 第27-28页 |
| ·技术路线 | 第28-29页 |
| 第二章 薄膜制备及测试方法 | 第29-37页 |
| ·RF-PECVD 设备结构及操作步骤 | 第29-30页 |
| ·薄膜制备材料及基片准备 | 第30-31页 |
| ·薄膜性能表征方法 | 第31-37页 |
| ·椭圆偏振(Ellipsometry) | 第31-33页 |
| ·X 射线衍射(XRD) | 第33-34页 |
| ·激光拉曼光谱(Raman) | 第34-35页 |
| ·傅立叶变换红外光谱(FTIR) | 第35-36页 |
| ·紫外-可见光谱(UV-Vis) | 第36-37页 |
| 第三章 a-C:H 薄膜的制备及性能研究 | 第37-50页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·薄膜的制备 | 第37-38页 |
| ·H_2/CH_4流量比对a-C:H 薄膜的影响 | 第38-45页 |
| ·薄膜沉积速率研究 | 第38-39页 |
| ·XRD 分析 | 第39-40页 |
| ·Raman 光谱分析 | 第40-43页 |
| ·薄膜光学带隙研究 | 第43-45页 |
| ·射频功率对a-C:H 薄膜的影响 | 第45-49页 |
| ·薄膜沉积速率研究 | 第45-46页 |
| ·Raman 光谱分析 | 第46-47页 |
| ·薄膜光学带隙研究 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 a-SiC:H 薄膜的制备及性能研究 | 第50-62页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·薄膜的制备 | 第50-51页 |
| ·CH_4/SiH_4 流量比对a-SiC:H 薄膜的影响 | 第51-58页 |
| ·薄膜沉积速率研究 | 第51-52页 |
| ·XRD 分析 | 第52-53页 |
| ·Raman 光谱分析 | 第53-55页 |
| ·FTIR 光谱分析 | 第55-56页 |
| ·薄膜光学带隙研究 | 第56-58页 |
| ·射频功率对a-SiC:H 薄膜的影响 | 第58-61页 |
| ·薄膜沉积速率研究 | 第58-59页 |
| ·薄膜光学带隙研究 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 结论与展望 | 第62-64页 |
| ·工作总结 | 第62-63页 |
| ·展望 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第70-71页 |