| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-12页 |
| 1 绪论 | 第12-26页 |
| ·引言 | 第12-14页 |
| ·研究惯性约束聚变的必要性 | 第12页 |
| ·惯性约束聚变的基本原理 | 第12-14页 |
| ·激光等离子体 X射线辐射和光谱分析 | 第14-15页 |
| ·激光等离子体的X射线辐射 | 第14-15页 |
| l.2.2 X射线的光谱分析 | 第15页 |
| ·激光等离子体 X射线谱仪的国内外研究现状 | 第15-23页 |
| ·激光等离子体 X射线谱仪 | 第15-18页 |
| ·国外光栅谱仪 | 第18-19页 |
| ·国外晶体谱仪 | 第19-22页 |
| ·国内光栅谱仪 | 第22-23页 |
| ·国内晶体谱仪 | 第23页 |
| ·课题的来源及意义 | 第23-24页 |
| ·本文研究的主要内容 | 第24页 |
| ·本章小结 | 第24-26页 |
| 2 晶体对 X射线的衍射理论 | 第26-38页 |
| ·晶体对 X射线的衍射原理 | 第26-27页 |
| ·X射线在物质中的散射 | 第26页 |
| ·晶体对 X射线衍射的原理 | 第26-27页 |
| ·晶体对 X射线的衍射方向 | 第27-29页 |
| ·晶体对 X射线的衍射强度 | 第29-34页 |
| ·一个理想小晶体的散射 | 第29-31页 |
| ·实际小晶体的衍射强度 | 第31-32页 |
| ·影响理论强度的因素 | 第32-34页 |
| ·决定晶体性能的基本参数 | 第34-35页 |
| ·晶面间距 | 第34-35页 |
| ·半高宽、峰值衍射率和积分反射系数 | 第35页 |
| ·本章小结 | 第35-38页 |
| 3 双通道椭圆弯晶谱仪及其分光晶体 | 第38-50页 |
| ·双通道椭圆弯晶谱仪的基本原理及结构 | 第38-43页 |
| ·双通道椭圆弯晶谱仪的基本原理 | 第38页 |
| ·双通道椭圆弯晶谱仪的结构 | 第38-43页 |
| ·双通道椭圆弯晶谱仪的特性 | 第43-46页 |
| ·双通道光谱检测系统的设计 | 第43页 |
| ·双通道椭圆弯晶谱仪的特性 | 第43-46页 |
| ·双通道椭圆弯晶谱仪的分光晶体 | 第46-49页 |
| ·分光晶体的基本要求及选择原则 | 第46-47页 |
| ·常用的分光晶体及其特性 | 第47-48页 |
| ·双通道椭圆弯晶谱仪的分光晶体 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 4 双通道椭圆弯晶谱仪弯晶分析器及提高 X射线衍射特性的实验研究 | 第50-84页 |
| ·弯晶分析器的检测方案 | 第50-55页 |
| ·X射线衍射特性检测的实验平台 | 第50-52页 |
| ·XRD-6000衍射仪的结构原理 | 第52-53页 |
| ·对弯晶分析器进行检测所必须满足的条件 | 第53-55页 |
| ·氟化锂平面晶体 X射线衍射特性实验 | 第55-66页 |
| ·氟化锂晶体的基本特征 | 第55页 |
| ·厚度分别为1mm与2mm的氟化锂晶体 X射线衍射特性的对比实验 | 第55-56页 |
| ·研磨对氟化锂分光性能的影响机理 | 第56-58页 |
| ·对厚度为1mm的氟化锂分光晶体的研磨实验 | 第58-59页 |
| ·新购的氟化锂分光晶体的X射线衍射特性 | 第59-61页 |
| ·对新购的氟化锂分光晶体的研磨实验 | 第61-64页 |
| ·对新购的氟化锂分光晶体的煅烧实验 | 第64-66页 |
| ·对新购的氟化锂分光晶体的表面清洗实验 | 第66页 |
| ·云母平面晶体 X射线衍射特性实验 | 第66-71页 |
| ·云母晶体的基本特征 | 第66页 |
| ·丹巴天然云母 X射线衍射特性实验 | 第66-68页 |
| ·印度云母 X射线衍射特性实验 | 第68-71页 |
| ·雅安云母 X射线衍射特性实验 | 第71页 |
| ·弯晶分析器的制作 | 第71-74页 |
| ·椭圆弯晶基底的技术参数 | 第71-73页 |
| ·椭圆弯晶分析器的制作 | 第73-74页 |
| ·弯晶分析器实验夹具的制作 | 第74页 |
| ·弯晶分析器的检测实验 | 第74-79页 |
| ·氟化锂椭圆弯品分析器X射线衍射特性实验 | 第75-77页 |
| ·印度云母、雅安云母椭圆弯品分析器X射线衍射特性实验 | 第77-79页 |
| ·特殊处理对晶体性能的影响 | 第79-82页 |
| ·本章小结 | 第82-84页 |
| 5 摄谱实验研究 | 第84-98页 |
| ·瞄准对中实验 | 第84-85页 |
| ·弯晶分析器位置误差对摄谱的影响 | 第85-89页 |
| ·影响摄谱精度的因素 | 第85页 |
| ·弯晶分析器位置误差对摄谱精度的影响 | 第85-89页 |
| ·激光打靶实验 | 第89-94页 |
| ·在神光II激光装置上的打靶实验 | 第89-91页 |
| ·在星光II激光装置上的打靶实验 | 第91-94页 |
| ·实验结果的分析和研究 | 第94-96页 |
| ·分析上述四次实验的结果 | 第94-95页 |
| ·实验参数的优化 | 第95-96页 |
| ·后继实验条件的设定 | 第96页 |
| ·双通道椭圆弯晶谱仪的优点和改进意见 | 第96-97页 |
| ·本章小结 | 第97-98页 |
| 6 总结 | 第98-100页 |
| 致谢 | 第100-102页 |
| 参考文献 | 第102-106页 |
| 附录 | 第106-108页 |
