| 第一章 绪论 | 第1-24页 |
| ·镁合金的特点和应用 | 第11-13页 |
| ·镁合金的特点 | 第11页 |
| ·镁合金在3C产品上的应用 | 第11-12页 |
| ·镁合金在医疗器械上的应用 | 第12-13页 |
| ·上述应用领域存在问题 | 第13页 |
| ·抗菌材料及金属抗菌化处理发展现状 | 第13-16页 |
| ·光催化型抗菌材料及其在金属表面处理方面的应用 | 第16-20页 |
| ·TIO_2薄膜的机械性能 | 第20页 |
| ·TIO_2薄膜制备方法 | 第20-22页 |
| ·化学气相沉积(CVD)法 | 第20页 |
| ·反应溅射法(R.Sputting) | 第20-21页 |
| ·溶胶-凝胶(sol-gel) | 第21页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)法 | 第21页 |
| ·离子自组装技术(ISAM) | 第21页 |
| ·液相沉积法(LPD) | 第21-22页 |
| ·TIO_2薄膜在镁合金上的应用 | 第22-24页 |
| 第二章 实验方法和手段 | 第24-30页 |
| ·液相沉积法制备TIO_2薄膜 | 第24-25页 |
| ·TIO_2薄膜的表征和性能检测 | 第25-29页 |
| ·TIO_2的锐钛矿转变温度 | 第25页 |
| ·薄膜的相结构分析 | 第25页 |
| ·薄膜的表面形貌 | 第25-26页 |
| ·漫反射光谱 | 第26-27页 |
| ·光催化效果检测 | 第27-28页 |
| ·耐腐蚀性能检测 | 第28-29页 |
| ·技术路线 | 第29-30页 |
| 第三章 TIO_2薄膜的形成和结构特征 | 第30-47页 |
| ·TIO_2的生成和沉积机理 | 第30-31页 |
| ·LPD法制备TIO_2的结构分析以及锐钛矿TIO_2形成温度 | 第31-38页 |
| ·锐钛矿形成温度 | 第33页 |
| ·LPD法制备TIO_2粉末的XRD | 第33-34页 |
| ·薄膜的晶体结构和影响因素 | 第34-38页 |
| ·AZ31负载TIO_2的表面形貌研究 | 第38-45页 |
| ·LPD法制备TIO_2薄膜的表面形貌 | 第38-41页 |
| ·沉积时间对薄膜表面形貌的影响 | 第41-42页 |
| ·热处理温度对薄膜表面形貌的影响 | 第42-43页 |
| ·热处理时间对薄膜表面形貌的影响 | 第43页 |
| ·热处理升温速率对薄膜表面形貌的影响 | 第43-45页 |
| ·小结 | 第45-47页 |
| 第四章 AZ31镁合金负载TIO_2薄膜的光催化性能研究 | 第47-58页 |
| ·TIO_2薄膜的光吸收性能研究 | 第47-49页 |
| ·光催化性能研究 | 第49-54页 |
| ·亚甲基蓝溶液光催化褪色原理 | 第49-50页 |
| ·光催化连续降解亚甲基蓝 | 第50-53页 |
| ·热处理气氛对光催化效率的影响 | 第53-54页 |
| ·MG~(2+)掺杂对TIO_2光催化性能的影响机理 | 第54-57页 |
| ·小结 | 第57-58页 |
| 第五章 TIO_2薄膜对AZ31镁合金的防护性能研究 | 第58-65页 |
| ·腐蚀失重正交实验结果及分析 | 第59页 |
| ·单因素对涂层耐腐蚀性能的影响 | 第59-63页 |
| ·水解反应温度对耐腐蚀性能的影响 | 第59-60页 |
| ·沉积时间对耐腐蚀性能的影响 | 第60页 |
| ·热处理温度对耐腐蚀性能的影响 | 第60-62页 |
| ·热处理时间对耐腐蚀性能的影响 | 第62-63页 |
| ·小结 | 第63-65页 |
| 第六章 结论 | 第65-68页 |
| 展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文和申请的专利 | 第76-77页 |
