| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-26页 |
| ·非晶合金的研究及其发展 | 第8-10页 |
| ·非晶形成机制和经验规律 | 第10-14页 |
| ·非晶形成理论 | 第10-12页 |
| ·关于二元非晶态合金形成的经验规则 | 第12-14页 |
| ·非晶薄膜 | 第14-16页 |
| ·非晶薄膜制备条件简述 | 第14-15页 |
| ·非晶薄膜的制备方法简介 | 第15-16页 |
| ·磁控溅射法制备薄膜的理论基础 | 第16-24页 |
| ·溅射的几种方式 | 第16-17页 |
| ·磁控溅射的基本原理 | 第17-20页 |
| ·薄膜的非自发形核及生长 | 第20-22页 |
| ·溅射沉积时薄膜的生长过程 | 第22-24页 |
| ·本文的选题意义及研究内容 | 第24-26页 |
| 第2章 实验设备和方法 | 第26-34页 |
| ·主要实验设备 | 第26-28页 |
| ·主要测试分析仪器和方法 | 第28-32页 |
| ·XRD 衍射仪表征薄膜结构 | 第28-30页 |
| ·原子力显微镜(AFM)表征薄膜表面形貌 | 第30-31页 |
| ·纳米压痕技术表征薄膜硬度和弹性模量 | 第31-32页 |
| ·其他实验设备及仪器 | 第32页 |
| ·实验过程 | 第32-34页 |
| 第3章 ZR-CU 非晶薄膜制备工艺的研究 | 第34-49页 |
| ·薄膜成分的控制 | 第34-38页 |
| ·溅射速率实验及成分估算 | 第35-37页 |
| ·能谱仪测定薄膜成分 | 第37-38页 |
| ·ZR-CU 非晶薄膜的制备工艺研究 | 第38-48页 |
| ·组元成分对Zr-Cu 薄膜结构的影响 | 第38-42页 |
| ·溅射气压对Zr-Cu 薄膜结构的影响 | 第42-44页 |
| ·衬底温度对Zr-Cu 薄膜结构的影响 | 第44-47页 |
| ·偏压溅射对Zr-Cu 薄膜结构的影响 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第4章 ZR-CU 非晶合金薄膜退火晶化的研究 | 第49-59页 |
| ·不同退火温度下ZR_(65)CU_(35) 非晶态薄膜的相演化 | 第49-53页 |
| ·不同退火温度下薄膜的XRD 分析 | 第49-50页 |
| ·不同退火温度下薄膜的AFM 表面形貌分析 | 第50-53页 |
| ·薄膜晶化过程中的形核及长大 | 第53-54页 |
| ·不同退火温度下薄膜的硬度和弹性模量 | 第54-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 作者简介 | 第66页 |