酞菁有机半导体气体传感器的研究
| 摘 要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| ·课题来源 | 第10页 |
| ·传感器概述 | 第10-11页 |
| ·气敏传感器 | 第11-14页 |
| ·酞菁材料及其应用与前景 | 第14-17页 |
| ·本文主要内容 | 第17-18页 |
| 第2章 材料的合成与传感器芯片的制作 | 第18-28页 |
| ·酞菁合成 | 第18-20页 |
| ·合成机理 | 第20-21页 |
| ·薄膜工艺 | 第21-23页 |
| ·薄膜制备工艺简介 | 第21页 |
| ·真空镀膜 | 第21-22页 |
| ·其它薄膜方法 | 第22-23页 |
| ·传感器芯片设计与制作 | 第23-26页 |
| ·平面叉指电极原理 | 第23-24页 |
| ·微精细加工工艺 | 第24-25页 |
| ·叉指电极制备工艺 | 第25-26页 |
| ·气敏测试系统 | 第26-27页 |
| ·敏感元件结构及测试装置 | 第26-27页 |
| ·其它测试装置 | 第27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 性能分析 | 第28-46页 |
| ·酞菁材料分析 | 第28-36页 |
| ·酞菁产品鉴定及分析 | 第28-30页 |
| ·镀膜工艺条件分析 | 第30-31页 |
| ·膜厚及表面分析 | 第31-36页 |
| ·气敏特性结果分析 | 第36-39页 |
| ·酞菁铜响应特性 | 第37-38页 |
| ·酞菁钯响应特性 | 第38-39页 |
| ·稳定性分析 | 第39-45页 |
| ·热稳定性 | 第39-40页 |
| ·选择性及重复性 | 第40-42页 |
| ·镀膜膜厚对气敏特性的影响 | 第42-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第4章 酞菁气敏性及气敏性机理探讨 | 第46-52页 |
| ·酞箐气敏机理探讨 | 第46-47页 |
| ·酞菁配合物气敏特征的影响因素 | 第47-51页 |
| ·总结与展望 | 第51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
