| 第一章 绪论 | 第1-25页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·MoS_2的性质及应用 | 第8-10页 |
| ·IF-MoS_2的发现 | 第10-15页 |
| ·富勒烯(C_(60))及纳米碳管的发现 | 第10-11页 |
| ·无机类富勒烯过渡金属硫化物的制备方法 | 第11-14页 |
| ·无机类富勒烯过渡金属硫化物的生成机理 | 第14-15页 |
| ·无机类富勒烯过渡金属硫化物的应用 | 第15-17页 |
| ·纳米IF-过渡金属硫化物在摩擦学的应用 | 第15-16页 |
| ·纳米IF-过渡金属硫化物的其他应用 | 第16-17页 |
| ·薄膜制备方法 | 第17-20页 |
| ·薄膜制备的化学方法 | 第17-19页 |
| ·薄膜制备的物理方法 | 第19-20页 |
| ·磁控溅射制备MoS_2薄膜镀层 | 第20-23页 |
| ·溅射基本原理 | 第20-21页 |
| ·溅射的装置 | 第21-23页 |
| ·磁控溅射制备MoS_2薄膜 | 第23-24页 |
| ·本课题的立题依据和研究意义 | 第24-25页 |
| 第二章 Mo/Mo_2S_3/MoS_2球形结构及IF-MoS_2的制备 | 第25-38页 |
| ·Mo/Mo_2S_3/MoS_2多层球形结构的制备 | 第25-30页 |
| ·Mo/Mo_2S_3/MoS_2球形结构的制备 | 第25页 |
| ·Mo／M02S3／MoS2球形结构的形貌和结构 | 第25-29页 |
| ·Mo/Mo_2S_3/MoS_2球形结构制备机理探讨 | 第29-30页 |
| ·喷雾干燥法制备IF-MoS_2 | 第30-37页 |
| ·IF-MoS_2的制备 | 第30-31页 |
| ·IF-MoS_2的形貌和结构 | 第31-36页 |
| ·IF-MoS_2形成机理探讨 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 磁控溅射IF-MaS_2镀层的摩擦磨损性能 | 第38-46页 |
| ·磁控溅射IF-MoS_2薄膜的制备 | 第38-39页 |
| ·靶材及基体的预处理 | 第38-39页 |
| ·磁控溅射IF-MoS_2薄膜的制备 | 第39页 |
| ·磁控溅射IF-MoS_2薄膜的微观结构 | 第39-41页 |
| ·磁控溅射IF-MoS_2薄膜的表面微观形貌 | 第39页 |
| ·磁控溅射IF-MoS_2薄膜的结构 | 第39-41页 |
| ·磁控溅射IF-MoS_2薄膜的摩擦磨损性能 | 第41-44页 |
| ·溅射IF-MoS_2靶材制备薄膜的摩擦磨损性能 | 第41-43页 |
| ·溅射IF-MoS_2靶材制备薄膜的磨损表面形貌 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 磁控溅射MoS_2/Mo梯度镀层摩擦磨损性能 | 第46-54页 |
| ·钢基体上MoS_2/Mo梯度镀层的制备 | 第46-47页 |
| ·磁控溅射MoS_2/Mo梯度镀层的摩擦磨损性能 | 第47-53页 |
| ·MoS_2/Mo梯度镀层的表面形貌 | 第47-50页 |
| ·MoS_2/Mo梯度镀层的摩擦磨损性能 | 第50-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 附录 | 第61页 |
