| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-20页 |
| ·多孔氧化铝膜的结构和形成机理 | 第8-11页 |
| ·多孔氧化铝膜的结构 | 第8-9页 |
| ·多孔氧化铝膜的形成机理 | 第9-11页 |
| ·多孔氧化铝膜的性能 | 第11-12页 |
| ·多孔氧化铝膜的应用 | 第12-17页 |
| ·耐磨、耐蚀性材料 | 第12页 |
| ·作为分离膜的应用 | 第12-13页 |
| ·在光学及光电元件中的应用 | 第13-14页 |
| ·在催化方面的应用 | 第14-16页 |
| ·在磁性方面的应用 | 第16页 |
| ·抗菌性多孔氧化铝膜 | 第16-17页 |
| ·太阳能吸收膜 | 第17页 |
| ·稀土在制备氧化铝膜中的应用 | 第17-18页 |
| ·本文主要研究内容和意义 | 第18-20页 |
| ·研究主要内容 | 第18页 |
| ·研究意义 | 第18-20页 |
| 第二章 实验部分 | 第20-29页 |
| ·实验仪器与药品 | 第20-21页 |
| ·实验仪器 | 第20页 |
| ·实验药品 | 第20-21页 |
| ·实验装置 | 第21-22页 |
| ·电解液及稀土离子液的配置 | 第22页 |
| ·电解液的配置 | 第22页 |
| ·稀土离子液的配置 | 第22页 |
| ·膜的制备 | 第22-24页 |
| ·预处理 | 第22-23页 |
| ·阳极氧化 | 第23页 |
| ·膜的剥离 | 第23-24页 |
| ·氧化铝膜制备工艺研究 | 第24-27页 |
| ·硫酸体系氧化铝膜制备工艺研究 | 第24-25页 |
| ·添加稀土离子的氧化铝膜制备工艺研究 | 第25-27页 |
| ·腐蚀时间和超声波对通孔效果的影响 | 第27页 |
| ·氧化铝膜性能测试及表征 | 第27-29页 |
| ·氧化铝膜厚度的测定 | 第27页 |
| ·氧化铝膜硬度的测定 | 第27页 |
| ·氧化铝膜微观形貌 | 第27-28页 |
| ·氧化铝膜组成成分分析 | 第28页 |
| ·氧化铝膜结构分析 | 第28-29页 |
| 第三章 硫酸体系氧化铝膜制备工艺研究 | 第29-33页 |
| ·工艺参数对氧化铝膜厚度和硬度的影响 | 第29-32页 |
| ·硫酸浓度对氧化铝膜厚度和硬度的影响 | 第29页 |
| ·氧化电压对氧化铝膜厚度和硬度的影响 | 第29-30页 |
| ·氧化温度对氧化铝膜厚度和硬度的影响 | 第30-31页 |
| ·氧化时间对氧化铝膜厚度和硬度的影响 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 第四章 添加稀土离子的氧化铝膜制备工艺研究 | 第33-45页 |
| ·添加Pr~(3+)、Y~(~(3+))、Nd~(3+)、Dy~(3+)、Rr~(3+)、Gd~(3+)对氧化铝膜厚度和硬度的影响 | 第33-37页 |
| ·添加Pr~(3+)氧化铝膜制备工艺研究 | 第37-39页 |
| ·氧化电压对氧化铝膜厚度和硬度的影响 | 第37页 |
| ·氧化温度对氧化铝膜厚度和硬度的影响 | 第37-38页 |
| ·氧化时间对氧化铝膜厚度和硬度的影响 | 第38-39页 |
| ·添加Nd~(3+)氧化铝膜制备工艺研究 | 第39-41页 |
| ·氧化电压对氧化铝膜厚度和硬度的影响 | 第39-40页 |
| ·氧化温度对氧化铝膜厚度和硬度的影响 | 第40页 |
| ·氧化时间对氧化铝膜厚度和硬度的影响 | 第40-41页 |
| ·添加Rr~(3+)氧化铝膜制备工艺研究 | 第41-43页 |
| ·氧化电压对氧化铝膜厚度和硬度的影响 | 第41-42页 |
| ·氧化温度对氧化铝膜厚度和硬度的影响 | 第42页 |
| ·氧化时间对氧化铝膜厚度和硬度的影响 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第五章 腐蚀时间和超声波对通孔效果的影响 | 第45-49页 |
| ·腐蚀时间的选择 | 第45-47页 |
| ·超声波对通孔效果的影响 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第六章 氧化铝膜表征 | 第49-57页 |
| ·氧化铝膜微观形貌 | 第49-50页 |
| ·氧化铝膜组成成分分析 | 第50-53页 |
| ·不同电解液氧化铝膜组成成分分析 | 第50-52页 |
| ·添加Pr~(3+)制备的氧化铝膜腐蚀后絮状物组成成分分析 | 第52-53页 |
| ·氧化铝膜结构分析 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第七章 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 致谢 | 第65页 |