| 目录 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 概述 | 第7-16页 |
| 1．1 纳米薄膜的发展、性质 | 第7-8页 |
| 1．1．1 发展历史 | 第7页 |
| 1．1．2 纳米薄膜的性质 | 第7-8页 |
| 1．2 氧化钛薄膜的结构、性质、及应用 | 第8-13页 |
| 1．2．1 二氧化钛薄膜的晶格结构 | 第8-10页 |
| 1．2．2 氧化钛薄膜的性质 | 第10-11页 |
| 1．2．3 二氧化钛薄膜的应用 | 第11-13页 |
| 1．3 二氧化钛薄膜的制备方法 | 第13-15页 |
| 1．3．1 化学气相沉积法 | 第13页 |
| 1．3．2 溶胶-凝胶法 | 第13页 |
| 1．3．3 磁控溅射法 | 第13页 |
| 1．3．4 液相沉积法 | 第13-14页 |
| 1．3．5 反应溅射法 | 第14页 |
| 1．3．6 脉冲激光沉积(PLD)法 | 第14页 |
| 1．3．7 离子自组装技术(ISAM) | 第14-15页 |
| 1．4 本论文主要研究内容及创新点 | 第15-16页 |
| 第二章 电子束反应蒸发设备与原理 | 第16-23页 |
| 2．1 真空系统 | 第16-18页 |
| 2．1．1 真空蒸发系统的物理基础 | 第16-18页 |
| 2．1．2 真空的获得 | 第18页 |
| 2．2 电子束蒸发 | 第18-20页 |
| 2．2．1 物理机理 | 第19页 |
| 2．2．2 电子束蒸发的特点 | 第19-20页 |
| 2．3 膜厚监控 | 第20-21页 |
| 2．4 薄膜的均匀性 | 第21-22页 |
| 2．5 小结 | 第22-23页 |
| 第三章 TiO_2薄膜的制备及热处理 | 第23-31页 |
| 3．1 TiO_2薄膜的制备设备、用料 | 第23-24页 |
| 3．2 TiO_2薄膜的制备过程 | 第24-25页 |
| 3．3 监控波长的设计选择 | 第25-26页 |
| 3．4 掺杂设计与结果分析 | 第26-29页 |
| 3．5 热处理 | 第29页 |
| 3．6 结论 | 第29-31页 |
| 第四章 TiO_2薄膜表面形貌及结构分析 | 第31-49页 |
| 4．1 仪器设备 | 第31页 |
| 4．2 原理概述 | 第31-35页 |
| 4．2．1 原子力显微镜 | 第31-32页 |
| 4．2．2 X射线衍射 | 第32-35页 |
| 4．3 形貌分析结果与讨论 | 第35-41页 |
| 4．3．1 不同基片对薄膜的影响 | 第35-37页 |
| 4．3．2 热处理对表面形貌的影响 | 第37-38页 |
| 4．3．3 掺杂对薄膜形貌的影响 | 第38-41页 |
| 4．4 X射线衍射物相分析 | 第41-47页 |
| 4．4．1 热处理对TiO_2相交的影响 | 第41-45页 |
| 4．4．2 掺杂对TiO_2相变的影响 | 第45-47页 |
| 4．5 结论 | 第47-49页 |
| 第五章 TiO_2薄膜性质的研究 | 第49-63页 |
| 5．1 仪器设备 | 第49页 |
| 5．2 原理概述 | 第49-51页 |
| 5．2．1 分光光度计 | 第49页 |
| 5．2．2 椭圆偏振仪 | 第49-51页 |
| 5．3 TiO_2薄膜折射率 | 第51-53页 |
| 5．3．1 镀制工艺对TiO_2薄膜折射率的影响 | 第51-53页 |
| 5．3．2 热处理对TiO_2薄膜折射率的影响 | 第53页 |
| 5．3．3 掺杂对TiO_2薄膜折射率的影响 | 第53页 |
| 5．4 TiO_2薄膜紫外-可见光透射率 | 第53-56页 |
| 5．4．1 热处理对TiO_2薄膜透射率的影响 | 第54-55页 |
| 5．4．2 掺杂对透射率的影响 | 第55-56页 |
| 5．5 TiO_2薄膜光吸收性能和光学禁带宽度的计算与分析 | 第56-59页 |
| 5．6 TiO_2薄膜的红外透射谱 | 第59-61页 |
| 5．7 TiO_2薄膜的电阻率 | 第61页 |
| 5．8 TiO_2薄膜与基片的粘附性测试 | 第61页 |
| 5．9 结论 | 第61-63页 |
| 第六章 结论与展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 硕士期间发表论文 | 第71-72页 |