| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章绪 论 | 第10-32页 |
| 1．1 等离子体鞘层的研究背景及意义 | 第10-13页 |
| 1．2 射频偏压等离子体鞘层研究现状 | 第13-19页 |
| 1．3 脉冲偏压等离子体鞘层研究现状 | 第19-21页 |
| 1．4 碰撞射频偏压等离子体鞘层研究现状 | 第21-22页 |
| 1．5 离子能量分布和角度分布的研究进展 | 第22-25页 |
| 1．6 论文安排 | 第25-27页 |
| 参考文献 | 第27-32页 |
| 第二章 无碰撞射频偏压等离子体鞘层流体动力学模型及基板上离子能量分布 | 第32-50页 |
| 2．1 射频偏压等离子体鞘层流体动力学模型 | 第33-36页 |
| 2．2 射频偏压等离子体鞘层时空演化特性的模拟 | 第36-44页 |
| 2．3 等离子体参数对射频偏压基板上离子能量分布的影响 | 第44-47页 |
| 2．4 小结 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-50页 |
| 第三章 无碰撞多种离子成分射频偏压等离子体鞘层流体动力学模型及基板上离子能量分布 | 第50-63页 |
| 3．1 多种离子成分射频偏压等离子体鞘层流体动力学模型 | 第51-53页 |
| 3．2 多种离子成分射频偏压等离子体鞘层时空演化特性的模拟 | 第53-57页 |
| 3．3 等离子体参数对基板上离子能量分布的影响 | 第57-61页 |
| 3．4 小结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-63页 |
| 第四章 基于绝缘基板的脉冲偏压等离子体鞘层流体动力学模型及基板上离子能量分布 | 第63-88页 |
| 4．1 脉冲偏压等离子体鞘层流体动力学模型 | 第64-67页 |
| 4．2 脉冲偏压等离子体鞘层时空演化特性的模拟 | 第67-69页 |
| 4．3 等离子体参数对脉冲偏压绝缘基板上离子能量分布和表面充电效应的的影响 | 第69-74页 |
| 4．4 射频偏压鞘层与脉冲偏压鞘层物理特性的比较 | 第74-81页 |
| 4．5 射频偏压与脉冲偏压基板上离子能量分布及表面充电效应的比较 | 第81-84页 |
| 4．6 小结 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-88页 |
| 第五章 碰撞效应对射频偏压等离子体鞘层物理特性及基板上离子能量分布和角度分布的影响 | 第88-107页 |
| 5．1 稳态碰撞射频偏压等离子体鞘层的流体动力学模拟 | 第89-95页 |
| 5．2 非稳态碰撞射频偏压等离子体鞘层的流体动力学模拟 | 第95-99页 |
| 5．3 碰撞效应对基板上离子能量分布和角度分布的影响 | 第99-105页 |
| 5．4 小结 | 第105-106页 |
| 参考文献 | 第106-107页 |
| 第六章 结论与展望 | 第107-109页 |
| 创新点摘要 | 第109-110页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第110-112页 |
| 致谢 | 第112-113页 |
