| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-12页 |
| ·金刚石膜压力传感器研究的意义 | 第8-9页 |
| ·金刚石薄膜压力传感器-国内外研究现状 | 第9-10页 |
| ·本文主要研究内容和创新点 | 第10-12页 |
| 第二章 掺杂金刚石膜压阻效应机理 | 第12-30页 |
| ·半导体压阻效应的基础理论 | 第12-13页 |
| ·半导体能带和形变势理论 | 第13-15页 |
| ·应变对电阻率的影响 | 第15-20页 |
| ·多晶体的压阻效应 | 第20-30页 |
| 第三章 金刚石薄膜压力传感器制备 | 第30-45页 |
| ·金刚石薄膜压力传感器原理和结构 | 第30-32页 |
| ·本征金刚石膜片的生长 | 第32-38页 |
| ·掺杂金刚石薄膜压敏电阻的沉积 | 第38-43页 |
| ·掺硼金刚石薄膜的欧姆接触 | 第43页 |
| ·压力传感器的硅衬底的刻蚀 | 第43-45页 |
| 第四章 实验结果与讨论 | 第45-47页 |
| 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 附录 | 第52-57页 |