羟基聚硅氧烷平衡聚合脱挥及反应器研究
摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-5页 |
目录 | 第5-9页 |
第一章 前言 | 第9-10页 |
第二章 文献综述 | 第10-34页 |
·概述 | 第10-11页 |
·低温硅橡胶基础聚合物及聚合工艺 | 第11-15页 |
·间歇工艺 | 第11-12页 |
·连续工艺 | 第12-15页 |
·羟基聚硅氧烷的脱挥 | 第15-17页 |
·脱挥装置简介 | 第15-16页 |
·脱挥理论 | 第16-17页 |
·高粘聚合反应器 | 第17-24页 |
·高粘聚合反应器设计要求 | 第17-19页 |
·流动性能 | 第17页 |
·混合效果 | 第17-18页 |
·自清洁能力 | 第18页 |
·反应空间 | 第18页 |
·传热问题 | 第18-19页 |
·常见反应器桨型 | 第19-20页 |
·自清洁反应器 | 第20-24页 |
·自清洁反应器特点 | 第20-21页 |
·近年来的自清洁反应器 | 第21-23页 |
·自清洁反应器在硅橡胶生产中的应用 | 第23-24页 |
·停留时间分布(RTD) | 第24-33页 |
·RTD的实验测定与表征 | 第24-26页 |
·RTD的实验测定方法 | 第25-26页 |
·RTD的表征 | 第26页 |
·紫外分析原理 | 第26-28页 |
·RTD导致误差的因素分析 | 第28-29页 |
·脉冲时间 | 第28-29页 |
·示踪剂输入与记录时间差 | 第29页 |
·示踪剂纯度与用量 | 第29页 |
·不同桨型RTD研究 | 第29-31页 |
·RTD对反应的影响 | 第31-33页 |
·RTD对转化率的影响 | 第31-32页 |
·RTD对分子量及分子量分布的影响 | 第32-33页 |
·课题的提出和意义 | 第33-34页 |
第三章 羟基聚硅氧烷平衡聚合研究 | 第34-45页 |
·实验装置 | 第34-35页 |
·原材料及实验步骤 | 第35页 |
·分析测试 | 第35-37页 |
·转化率 | 第35页 |
·特性粘度 | 第35页 |
·分子量分布 | 第35-37页 |
·结果与分析 | 第37-44页 |
·催化剂的确定 | 第37-38页 |
·催化剂用量对转化率的影响 | 第38-39页 |
·反应时间对转化率的影响 | 第39-40页 |
·水量的确定 | 第40-42页 |
·分子量分布指数的比较 | 第42-44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
第四章 羟基聚硅氧烷脱挥研究 | 第45-52页 |
·实验装置 | 第45页 |
·实验物料 | 第45页 |
·原材料 | 第45页 |
·试样制备 | 第45页 |
·测量与表征 | 第45-46页 |
·结果与讨论 | 第46-51页 |
·温度对脱挥效果的影响 | 第46-47页 |
·真空度对脱挥效果的影响 | 第47页 |
·螺杆转速对脱挥效果的影响 | 第47-49页 |
·进料流量对脱挥效果的影响 | 第49-50页 |
·初始挥分含量对脱挥效果的影响 | 第50-51页 |
·本章小结 | 第51-52页 |
第五章 卧式双轴自清洁反应器RTD实验研究 | 第52-65页 |
·实验设备 | 第52-53页 |
·实验装置 | 第52页 |
·釜结构 | 第52-53页 |
·桨叶结构 | 第53页 |
·实验物料 | 第53-54页 |
·原材料 | 第53-54页 |
·示踪剂的选择 | 第54页 |
·分析测试 | 第54-56页 |
·相关测量 | 第54页 |
·吸光度的测定 | 第54-56页 |
·结果与讨论 | 第56-64页 |
·操作条件对RTD的影响 | 第57-60页 |
·流量 | 第57-58页 |
·转速 | 第58-59页 |
·物料粘度 | 第59页 |
·桨叶安装角度 | 第59-60页 |
·返混系数 | 第60-63页 |
·模型 | 第60-61页 |
·对轴向雷诺数的关联 | 第61-62页 |
·对混合雷诺数的关联 | 第62页 |
·粘度对返混系数的影响 | 第62-63页 |
·桨叶安装角度对返混系数的影响 | 第63页 |
·模拟曲线与实验曲线的对比 | 第63-64页 |
·本章小结 | 第64-65页 |
第六章 中试方案 | 第65-67页 |
第七章 结论 | 第67-69页 |
符号说明 | 第69-72页 |
参考文献 | 第72-74页 |
致谢 | 第74页 |