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激光多程放大系统杂散光分析

第一章 绪论第1-21页
 1.1 课题背景第8-13页
  1.1.1 “理想的能源”——聚变能第8-9页
  1.1.2 亟待解决的难题——受控核聚变第9-10页
  1.1.3 受控核聚变的最佳技术途径——激光核聚变第10-11页
  1.1.4 激光核聚变的历史性机遇——核禁试条约的签订第11-13页
 1.2 问题的提出第13-18页
  1.2.1 高功率固体激光装置的辉煌发展第13-14页
  1.2.2 激光多程放大系统第14-15页
  1.2.3 多程放大系统杂散光分析第15-18页
 1.3 本课题的研究内容第18-21页
第二章 杂散光概述第21-31页
 2.1 杂散光的来源第21-23页
  2.1.1 由组成系统的光学零件所产生的杂散光第21-22页
  2.1.2 光学系统中的机械零件产生的杂散光第22-23页
 2.2 杂散光的危害第23-24页
  2.2.1 影响系统成像质量第23页
  2.2.2 影响像的彩色还原第23-24页
  2.2.3 损伤系统中光学元件第24页
  2.2.4 影响光束质量和传输特性第24页
 2.3 杂散光的常用计算方法第24-28页
  2.3.1 蒙特卡罗(Monte Carto)法第25页
  2.3.2 光线追迹法第25-26页
  2.3.3 近轴近似法第26-27页
  2.3.4 光流密度追迹法第27-28页
 2.4 杂散光的常用测量方法第28-31页
  2.4.1 黑斑法第28页
  2.4.2 点源法第28-29页
  2.4 总述第29-31页
第三章 激光多程放大系统鬼像分析的研究对象和研究方法第31-42页
 3.1 激光多程放大系统的基本构型第31-36页
  3.1.1 前端第33页
  3.1.2 预放级第33-34页
  3.1.3 主放大级第34-35页
  3.1.4 诊断靶场系统第35-36页
 3.2 激光多程放大系统鬼像分析的研究方法第36-40页
  3.2.1 光线光学方法第36-37页
  3.2.2 近轴光线传播定律第37-38页
  3.2.3 空间光线传播定律第38-40页
 3.3 程序设计语言第40-42页
第四章 激光多程放大系统鬼像分析的技术路线第42-51页
 4.1 高功率激光装置中杂散光特点第42-43页
 4.2 杂散光分析模型第43-46页
  4.2.1 鬼像的来源第43-44页
  4.2.2 光线高密取样第44-45页
  4.2.3 鬼像影响区域第45-46页
 4.3 杂散光分析技术路线及数据结构第46-51页
第五章 多程放大系统鬼像分析软件第51-64页
 5.1 鬼像分析软件系统分析及开发计划第51-55页
  5.1.1 系统分析第51页
  5.1.2 可行性分析第51-52页
  5.1.3 软件开发计划第52-55页
 5.4 软件设计与编码第55-61页
  5.4.1 系统结构参数的输入与修改第55-58页
  5.4.2 初级像差计算与鬼像近轴分析第58-59页
  5.4.3 实际光线鬼像分析第59-60页
  5.4.4 规范的编码方法第60-61页
 5.5 软件测试第61-62页
 5.6 软件维护第62页
 5.7 小结第62-64页
第六章 光线追迹子程序中若干重要问题的处理第64-78页
 6.1 标准面(Standard)光线追迹程序处理第64-67页
 6.2 非球面(Asphere)光线追迹程序处理第67-71页
 6.3 偏心倾斜问题(CoordBreak面型)的处理第71-75页
 6.4 其它需要特殊考虑的问题第75-78页
第七章 杂散光分析软件的功能概述和实例计算第78-84页
 7.1 系统结构参数的输入与修改第78页
 7.2 初级像差计算与鬼像近轴分析第78-79页
 7.3 实际光线鬼像分析第79页
 7.4 杂光实例计算第79-84页
第八章 课题结论与展望第84-87页
 8.1 软件的主要特点第84-85页
 8.2 课题展望第85-87页
攻读硕士学位期间发表的文章第87页

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