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软X射线多层膜膜厚分布均匀性控制研究

第一章 绪论第1-13页
 1.1 软X射线多层膜的发展概况第10页
 1.2 软X射线多层膜的应用第10-12页
  1.2.1 X射线太阳望远镜第11页
  1.2.2 X射线显微镜第11页
  1.2.3 极紫外投影光刻第11-12页
  1.2.4 X射线激光第12页
 1.3 课题研究背景第12-13页
第二章 软X射线多层膜理论基础第13-23页
 2.1 软X射线与物质的相互作用第13-15页
  2.1.1 原子散射因子第13-14页
  2.1.2 软X射线波段的光学常数第14-15页
 2.2 多层膜反射理论第15-23页
  2.2.1 软X射线在理想多层膜系中的反射第15-18页
  2.2.2 软X射线在非理想膜系中的反射第18-23页
   1) 散射理论第18-20页
   2) 散射场第20-21页
   3) 非理想界面的Fresnel反射系数第21-23页
第三章 多层膜性能模拟计算第23-41页
 3.1 反射率随波长变化第23-25页
 3.2 反射率随入射角变化第25-27页
 3.3 多层膜反射率随界面宽度的变化第27-30页
 3.4 多层膜反射率随膜层数的变化第30-34页
 3.5 中心波长处反射率随膜层结构比的变化第34-35页
 3.6 峰值波长随周期厚度的漂移第35-36页
 3.7 反射与透射特性(偏振特性)第36-37页
 3.8 多层膜表面刻蚀以提高面形精度的模拟计算第37-40页
 3.9 小结第40-41页
第四章 多层膜均匀性挡板的设计第41-46页
 4.1 多层膜均匀性概述第41页
 4.2 膜厚分布理论第41-42页
 4.3 挡板的设计第42-45页
 4.4 小结第45-46页
第五章 多层膜反射镜的制备第46-63页
 5.1 材料的选择第46-51页
 5.2 离子束溅射理论基础第51-57页
  5.2.1 软X射线多层膜的镀制方法简介第51页
   1) 电子束蒸发(EB)第51页
   2) 磁控溅射(MS)第51页
   3) 离子束溅射(IBS)第51页
  5.2.2 溅射基本原理第51-53页
  5.2.3 溅射阈和溅射率第53-54页
  5.2.4 溅射粒子的速度和能量第54页
  5.2.5 溅射速率和沉积速率第54-55页
  5.2.6 离子束溅射原理第55-57页
 5.3 多层膜制备工艺第57-60页
  5.3.1 靶与样品的间距第57页
  5.3.2 本底真空度第57-58页
  5.3.3 基片第58-60页
  5.3.4 工作气体流量第60页
  5.3.5 靶材料的纯度第60页
  5.3.6 其它参数第60页
 5.4 多层膜沉积速率定标实验第60-61页
 5.5 正式样品的制备第61-63页
第六章 多层膜反射镜检测方法与结果第63-75页
 6.1 引言第63页
 6.2 软X射线反射率测量第63-64页
 6.3 硬X射线反射率测量第64-67页
  6.3.1 X射线衍射仪检测多层膜结构的原理第64页
  6.3.2 测量条件第64-65页
  6.3.3 数据分析第65-66页
  6.3.4 误差分析第66-67页
 6.4 实验结果第67-74页
  6.4.1 自转圆周均匀性第67-69页
  6.4.2 小角衍射仪测量结果第69-71页
  6.4.3 空间分布均匀性检测结果第71-73页
  6.4.4 X射线太阳望远镜主镜与次镜第73-74页
  6.4.5 软X射线反射率计测量结果第74页
 6.5 小结第74-75页
第七章 总结与展望第75-76页
 7.1 论文内容第75页
 7.2 研究成果第75页
 7.3 本文的创新点第75页
 7.4 展望第75-76页
参考文献第76-79页
致谢第79-80页
作者简历第80页

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