软X射线多层膜膜厚分布均匀性控制研究
第一章 绪论 | 第1-13页 |
1.1 软X射线多层膜的发展概况 | 第10页 |
1.2 软X射线多层膜的应用 | 第10-12页 |
1.2.1 X射线太阳望远镜 | 第11页 |
1.2.2 X射线显微镜 | 第11页 |
1.2.3 极紫外投影光刻 | 第11-12页 |
1.2.4 X射线激光 | 第12页 |
1.3 课题研究背景 | 第12-13页 |
第二章 软X射线多层膜理论基础 | 第13-23页 |
2.1 软X射线与物质的相互作用 | 第13-15页 |
2.1.1 原子散射因子 | 第13-14页 |
2.1.2 软X射线波段的光学常数 | 第14-15页 |
2.2 多层膜反射理论 | 第15-23页 |
2.2.1 软X射线在理想多层膜系中的反射 | 第15-18页 |
2.2.2 软X射线在非理想膜系中的反射 | 第18-23页 |
1) 散射理论 | 第18-20页 |
2) 散射场 | 第20-21页 |
3) 非理想界面的Fresnel反射系数 | 第21-23页 |
第三章 多层膜性能模拟计算 | 第23-41页 |
3.1 反射率随波长变化 | 第23-25页 |
3.2 反射率随入射角变化 | 第25-27页 |
3.3 多层膜反射率随界面宽度的变化 | 第27-30页 |
3.4 多层膜反射率随膜层数的变化 | 第30-34页 |
3.5 中心波长处反射率随膜层结构比的变化 | 第34-35页 |
3.6 峰值波长随周期厚度的漂移 | 第35-36页 |
3.7 反射与透射特性(偏振特性) | 第36-37页 |
3.8 多层膜表面刻蚀以提高面形精度的模拟计算 | 第37-40页 |
3.9 小结 | 第40-41页 |
第四章 多层膜均匀性挡板的设计 | 第41-46页 |
4.1 多层膜均匀性概述 | 第41页 |
4.2 膜厚分布理论 | 第41-42页 |
4.3 挡板的设计 | 第42-45页 |
4.4 小结 | 第45-46页 |
第五章 多层膜反射镜的制备 | 第46-63页 |
5.1 材料的选择 | 第46-51页 |
5.2 离子束溅射理论基础 | 第51-57页 |
5.2.1 软X射线多层膜的镀制方法简介 | 第51页 |
1) 电子束蒸发(EB) | 第51页 |
2) 磁控溅射(MS) | 第51页 |
3) 离子束溅射(IBS) | 第51页 |
5.2.2 溅射基本原理 | 第51-53页 |
5.2.3 溅射阈和溅射率 | 第53-54页 |
5.2.4 溅射粒子的速度和能量 | 第54页 |
5.2.5 溅射速率和沉积速率 | 第54-55页 |
5.2.6 离子束溅射原理 | 第55-57页 |
5.3 多层膜制备工艺 | 第57-60页 |
5.3.1 靶与样品的间距 | 第57页 |
5.3.2 本底真空度 | 第57-58页 |
5.3.3 基片 | 第58-60页 |
5.3.4 工作气体流量 | 第60页 |
5.3.5 靶材料的纯度 | 第60页 |
5.3.6 其它参数 | 第60页 |
5.4 多层膜沉积速率定标实验 | 第60-61页 |
5.5 正式样品的制备 | 第61-63页 |
第六章 多层膜反射镜检测方法与结果 | 第63-75页 |
6.1 引言 | 第63页 |
6.2 软X射线反射率测量 | 第63-64页 |
6.3 硬X射线反射率测量 | 第64-67页 |
6.3.1 X射线衍射仪检测多层膜结构的原理 | 第64页 |
6.3.2 测量条件 | 第64-65页 |
6.3.3 数据分析 | 第65-66页 |
6.3.4 误差分析 | 第66-67页 |
6.4 实验结果 | 第67-74页 |
6.4.1 自转圆周均匀性 | 第67-69页 |
6.4.2 小角衍射仪测量结果 | 第69-71页 |
6.4.3 空间分布均匀性检测结果 | 第71-73页 |
6.4.4 X射线太阳望远镜主镜与次镜 | 第73-74页 |
6.4.5 软X射线反射率计测量结果 | 第74页 |
6.5 小结 | 第74-75页 |
第七章 总结与展望 | 第75-76页 |
7.1 论文内容 | 第75页 |
7.2 研究成果 | 第75页 |
7.3 本文的创新点 | 第75页 |
7.4 展望 | 第75-76页 |
参考文献 | 第76-79页 |
致谢 | 第79-80页 |
作者简历 | 第80页 |