摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-20页 |
第一章 绪论 | 第20-35页 |
·引言 | 第20-24页 |
·金刚石厚膜的光学性能与红外应用 | 第24-27页 |
·光学性能 | 第24-26页 |
·红外应用 | 第26-27页 |
·应用于红外窗口的关键技术研究进展 | 第27-32页 |
·仿真与制备过程中的关键技术 | 第28-29页 |
·抛光工艺中的关键技术 | 第29-30页 |
·红外透波及减反射涂层中的关键技术 | 第30-32页 |
·研究基础及内容 | 第32-34页 |
·研究基础 | 第32页 |
·主要研究内容 | 第32-34页 |
·本章小结 | 第34-35页 |
第二章 光学级金刚石厚膜沉积系统中衬底空间流场仿真研究 | 第35-51页 |
·引言 | 第35页 |
·等离子体射流运动的基本特性 | 第35-36页 |
·流态判别 | 第35-36页 |
·可压缩性判别 | 第36页 |
·仿真模型的建立及前处理 | 第36-43页 |
·几何建模 | 第36-37页 |
·P9 网格的划分 | 第37-38页 |
·P9 边界条件的设定 | 第38-39页 |
·仿真参数的确定 | 第39-43页 |
·仿真结果及分析 | 第43-50页 |
·等离子体射流流场 | 第44-45页 |
·等离子体射流速度场 | 第45-46页 |
·等离子体射流温度场 | 第46-49页 |
·等离子体射流压力场 | 第49-50页 |
·本章小结 | 第50-51页 |
第三章 光学级金刚石厚膜的制备机理与工艺研究 | 第51-79页 |
·引言 | 第51页 |
·实验条件及方法 | 第51-55页 |
·沉积设备及工艺条件 | 第51-54页 |
·金刚石厚膜的表征 | 第54-55页 |
·甲烷浓度的影响 | 第55-62页 |
·甲烷浓度对金刚石厚膜纯度的影响 | 第55-57页 |
·甲烷浓度对金刚石厚膜生长缺陷密度的影响 | 第57-58页 |
·甲烷浓度引起的沉积不稳定性生长现象 | 第58-60页 |
·甲烷浓度引起生长过程中的阳极喷嘴结碳现象 | 第60-62页 |
·气体压强的影响 | 第62-65页 |
·衬底温度的影响 | 第65-72页 |
·接触界面对衬底表面温度的影响 | 第65-70页 |
·衬底温度对金刚石厚膜沉积质量的影响 | 第70-72页 |
·输入功率的影响 | 第72-76页 |
·输入功率的自动控制 | 第73-74页 |
·输入功率对金刚石厚膜沉积的影响 | 第74-76页 |
·其它参数对金刚石厚膜沉积的影响 | 第76-77页 |
·冷却循环水的影响 | 第76-77页 |
·放电电弧局部高温的影响 | 第77页 |
·阳极喷嘴表面质量的影响 | 第77页 |
·本章小结 | 第77-79页 |
第四章 光学级金刚石厚膜电火花与机械组合抛光技术的研究 | 第79-96页 |
·引言 | 第79-80页 |
·电火花抛光工艺参数的影响 | 第80-82页 |
·实验条件及方法 | 第80页 |
·电流对表面形貌的影响 | 第80-81页 |
·电流和脉冲宽度对抛光效率的影响 | 第81-82页 |
·机械抛光工艺参数的影响 | 第82-88页 |
·实验条件及方法 | 第82-83页 |
·表面粗糙度的影响 | 第83-85页 |
·表面形貌的影响 | 第85-87页 |
·抛光效率的影响 | 第87-88页 |
·抛光机理与内应力变化的影响 | 第88-93页 |
·电火花抛光机理 | 第88-90页 |
·机械抛光机理 | 第90页 |
·组合抛光的内应力变化 | 第90-93页 |
·组合抛光后红外透射率的变化 | 第93-94页 |
·本章小节 | 第94-96页 |
第五章 光学级金刚石厚膜的红外透波机理与性能分析 | 第96-113页 |
·引言 | 第96页 |
·金刚石厚膜的红外透波机理分析 | 第96-99页 |
·表面形貌对红外透射率的影响 | 第99-105页 |
·几种典型表面形貌的影响 | 第99-104页 |
·表面粗糙度的影响 | 第104-105页 |
·内部结构对红外透射率的影响 | 第105-111页 |
·杂质成分的影响 | 第105-106页 |
·晶粒尺寸的影响 | 第106-107页 |
·缺陷的影响 | 第107-108页 |
·内应力的影响 | 第108-111页 |
·本章小结 | 第111-113页 |
第六章 基于减反射涂层的金刚石厚膜红外增透技术的研究 | 第113-127页 |
·引言 | 第113页 |
·减反射涂层的选择及透射率计算 | 第113-116页 |
·涂层的选择 | 第113-115页 |
·具有减反射涂层的金刚石厚膜透射率 | 第115-116页 |
·减反射涂层的沉积条件及方法 | 第116-117页 |
·涂层厚度的均匀性分析 | 第117-118页 |
·涂层的致密度及应力分析 | 第118-120页 |
·致密度 | 第118-119页 |
·涂层应力 | 第119-120页 |
·涂层的附着力及界面分析 | 第120-122页 |
·附着力 | 第120页 |
·涂层结合界面 | 第120-122页 |
·涂层的应用性能分析 | 第122页 |
·理化性能 | 第122页 |
·恒湿热性能 | 第122页 |
·涂层的红外透射率的测量与拟合分析 | 第122-126页 |
·红外透射率的测量与分析 | 第122-124页 |
·减反射涂层红外透射率曲线的拟合 | 第124-126页 |
·本章小结 | 第126-127页 |
第七章 结论与展望 | 第127-131页 |
·全文总结 | 第127-130页 |
·本文完成的主要工作 | 第127-129页 |
·本文的创新之处 | 第129-130页 |
·进一步研究工作的展望 | 第130-131页 |
参考文献 | 第131-145页 |
致谢 | 第145-146页 |
在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第146-147页 |