| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-18页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·硬质薄膜 | 第11-12页 |
| ·超硬纳米多层膜 | 第12-15页 |
| ·超硬纳米多层膜的研究背景 | 第12-13页 |
| ·超硬纳米多层膜的研究现状 | 第13-15页 |
| ·固态薄膜的常用制备技术 | 第15-16页 |
| ·本文的研究背景和意义 | 第16-17页 |
| ·本文的研究内容 | 第17-18页 |
| 第二章 实验原理与测试方法 | 第18-33页 |
| ·离子束溅射与离子束辅助沉积 | 第18-23页 |
| ·溅射的基本原理 | 第18-20页 |
| ·离子束溅射 | 第20-21页 |
| ·离子束辅助沉积 | 第21页 |
| ·考夫曼离子源 | 第21-23页 |
| ·薄膜的结构测试方法 | 第23-24页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第23-24页 |
| ·俄歇电子能谱(AES)分析 | 第24页 |
| ·薄膜的力学性能测试方法 | 第24-33页 |
| ·薄膜的厚度、残余应力测试 | 第24-26页 |
| ·薄膜的硬度测试 | 第26-30页 |
| ·薄膜与基底的结合力测试 | 第30-31页 |
| ·薄膜的摩擦性能测试 | 第31-33页 |
| 第三章 ZrN/TiAlN纳米多层膜的结构和力学性能 | 第33-58页 |
| ·ZrN/TiAlN纳米多层膜的制备 | 第33-34页 |
| ·实验参数对ZrN/TiAlN纳米多层膜结构和性能的影响 | 第34-49页 |
| ·调制周期对ZrN/TiAlN纳米多层膜结构和性能的影响 | 第34-39页 |
| ·调制比例对ZrN/TiAlN纳米多层膜结构和性能的影响 | 第39-41页 |
| ·离子轰击能量对ZrN/TiAlN纳米多层膜结构和性能的影响 | 第41-45页 |
| ·束流和基底温度对ZrN/TiAlN纳米多层膜结构和性能的影响 | 第45-49页 |
| ·部分薄膜的多层结构分析 | 第49-53页 |
| ·薄膜的小角X-射线衍射(LA-XRD)分析 | 第49-51页 |
| ·薄膜的扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第51页 |
| ·薄膜的俄歇电子能谱(AES)分析 | 第51-53页 |
| ·薄膜与基底结合力划痕测试结果分析 | 第53-55页 |
| ·ZrN/TiAlN纳米多层膜的致硬机理分析 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第四章 CN_x/TiAlN纳米多层膜的结构和力学性能 | 第58-70页 |
| ·CN_x/TiAlN纳米多层膜的制备 | 第58-59页 |
| ·CN_x/TiAlN纳米多层膜的结构分析 | 第59-62页 |
| ·多层膜的小角X射线衍射(LA-XRD)分析 | 第59页 |
| ·多层膜的俄歇电子能谱(AES)分析 | 第59-60页 |
| ·薄膜的高角度 XRD分析 | 第60-62页 |
| ·CN_x/TiAlN纳米多层膜的力学性能分析 | 第62-67页 |
| ·CN_x/TiAlN多层膜的残余应力分析 | 第62-63页 |
| ·CN_x/TiAlN多层膜的硬度分析 | 第63-65页 |
| ·CN_x/TiAlN多层膜的摩擦性能分析 | 第65-66页 |
| ·薄膜的膜基结合力分析 | 第66-67页 |
| ·CN_x/TiAlN纳米多层膜的生长方式和致硬机理分析 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 第五章 问题与展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-77页 |
| 硕士在读期间发表的论文 | 第77-79页 |
| 硕士在读期间获得的奖励 | 第79页 |
| 硕士在读期间参加的会议 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
