惰性气体同位素测量系统的智能化研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| ·质谱仪技术背景 | 第11-16页 |
| ·质谱技术介绍 | 第11页 |
| ·质谱仪介绍 | 第11-13页 |
| ·激光熔样在质谱仪中的应用 | 第13-14页 |
| ·Ar 同位素测年在地质学中的应用 | 第14-15页 |
| ·国内外Ar-Ar 实验室发展状况 | 第15-16页 |
| ·课题来源 | 第16-19页 |
| ·智能化惰性气体同位素测量系统 | 第16-18页 |
| ·智能化多功能稳定同位素样品制备系统 | 第18-19页 |
| ·国内外现状及课题意义 | 第19-21页 |
| ·课题任务及本文主要内容 | 第21-24页 |
| 第二章 质谱外围系统的研究和改进 | 第24-47页 |
| ·激光熔样系统 | 第24-31页 |
| ·激光熔样系统介绍 | 第24-26页 |
| ·激光熔样系统组成 | 第26-29页 |
| ·二维样品台的设计 | 第29-31页 |
| ·石墨炉熔样系统 | 第31-33页 |
| ·石墨炉熔样系统介绍 | 第31-32页 |
| ·自动送样装置的设计 | 第32-33页 |
| ·纯化系统 | 第33-37页 |
| ·纯化系统介绍 | 第33-34页 |
| ·纯化系统组成 | 第34-36页 |
| ·纯化系统的改造 | 第36-37页 |
| ·电器控制系统 | 第37-44页 |
| ·PLC 的介绍与选型 | 第37-39页 |
| ·电器系统组成及控制 | 第39-44页 |
| ·质谱控制与仿真平台 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第三章 质谱系统及测量技术 | 第47-69页 |
| ·质谱系统 | 第47-55页 |
| ·离子源 | 第48-50页 |
| ·质量分析器 | 第50-52页 |
| ·离子收集检测器 | 第52-53页 |
| ·离子计数卡的设计 | 第53-55页 |
| ·质谱仪性能参数和技术指标 | 第55-58页 |
| ·质谱仪的主要性能参数 | 第55-57页 |
| ·质谱仪的主要技术指标 | 第57-58页 |
| ·质谱测量与分析原理 | 第58-63页 |
| ·Ar 同位素分析 | 第58-59页 |
| ·~(40)Ar/~(39)Ar测年 | 第59-62页 |
| ·ArArCALC 的原理与介绍 | 第62-63页 |
| ·测量中寻峰缺陷与改进 | 第63-68页 |
| ·测量寻峰与缺陷 | 第63-65页 |
| ·测量寻峰方法的改进 | 第65-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第四章 熔样系统中的图像检测技术 | 第69-103页 |
| ·图像采集与预处理 | 第69-76页 |
| ·相机视频和图像采集卡 | 第69-71页 |
| ·图像预处理研究 | 第71-73页 |
| ·图像预处理实验分析 | 第73-75页 |
| ·改进彩色图像滤波器 | 第75-76页 |
| ·视觉系统调焦技术的研究 | 第76-86页 |
| ·常用的调焦评价函数 | 第76-79页 |
| ·灰度调焦评价函数的选择 | 第79-82页 |
| ·彩色图像调焦评价函数设计 | 第82-83页 |
| ·自动调焦系统组成与算法设计 | 第83-86页 |
| ·视觉系统标定 | 第86-97页 |
| ·CCD 摄像机标定 | 第86-88页 |
| ·系统零位标定 | 第88-89页 |
| ·样品台零位标定 | 第89页 |
| ·标定方法研究及设计 | 第89-94页 |
| ·标定过程及结果 | 第94-96页 |
| ·标定误差分析 | 第96-97页 |
| ·彩色图像的边缘检测 | 第97-100页 |
| ·彩色图像边缘检测方法 | 第97-98页 |
| ·灰度边缘检测算法 | 第98-99页 |
| ·轮廓提取与轮廓跟踪 | 第99-100页 |
| ·矿物样品图像识别 | 第100-102页 |
| ·矿物样品的轮廓提取 | 第101-102页 |
| ·采样位置点获取 | 第102页 |
| ·本章小结 | 第102-103页 |
| 第五章 系统控制软件的设计及智能化 | 第103-129页 |
| ·虚拟仪器及LabVIEW 介绍 | 第103-105页 |
| ·虚拟仪器技术 | 第103-104页 |
| ·LabVIEW | 第104-105页 |
| ·熔样系统的控制 | 第105-117页 |
| ·通过程序链接实现系统控制 | 第105-110页 |
| ·系统控制软件的重新设计 | 第110-114页 |
| ·系统软件的智能化设计 | 第114-117页 |
| ·石墨炉的温度控制 | 第117页 |
| ·纯化与质谱系统的控制 | 第117-119页 |
| ·纯化系统的控制 | 第117-118页 |
| ·质谱系统的控制 | 第118-119页 |
| ·测量系统的总控制 | 第119-125页 |
| ·总控制程序的设计 | 第119-122页 |
| ·总控制程序的实现 | 第122-125页 |
| ·软件设计中的关键技术 | 第125-128页 |
| ·本章小结 | 第128-129页 |
| 第六章 系统误差分析与实验 | 第129-139页 |
| ·熔样系统实验分析 | 第129-133页 |
| ·误差分析 | 第129-130页 |
| ·实验分析 | 第130-133页 |
| ·质谱及纯化实验分析 | 第133-138页 |
| ·误差分析 | 第133-134页 |
| ·质谱测量实验分析 | 第134-138页 |
| ·结论 | 第138-139页 |
| 总结与展望 | 第139-142页 |
| 参考文献 | 第142-149页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第149-151页 |
| 致谢 | 第151-152页 |
| 附录 | 第152-158页 |
