过渡金属酞菁衍生物薄膜的制备及其气敏性质研究

中文摘要	第1-3页
ABSTRACT	第3-7页
第1章 文献综述	第7-24页
·酞菁配合物的研究进展	第7页
·酞菁类配合物的应用	第7-8页
·酞菁类配合物的结构和性质	第8-13页
·酞菁类配合物的结构	第8-9页
·酞菁类配合物的性质	第9-13页
·酞菁类配合物的分类	第13-14页
·金属酞菁配合物的合成方法	第14-16页
·插入配位合成法	第14-15页
·模板反应法	第15-16页
·酞菁类配合物的气敏性研究	第16-22页
·酞菁类配合物的气敏性研究概况	第16-18页
·酞菁类配合物的气敏机理	第18-19页
·酞菁类配合物气敏性的主要影响因素	第19-22页
·论文的主要研究内容	第22-24页
第2章 实验部分	第24-29页
·主要试剂	第24页
·主要仪器	第24-25页
·金属酞菁配合物旋涂膜的制备	第25-26页
·基片预处理	第25页
·旋涂膜的制备	第25-26页
·酞菁类配合物气敏性测试	第26-29页
第3章 结果与讨论	第29-63页
·酞菁类配合物旋涂膜的表征	第29-40页
·电子吸收光谱	第29-34页
·红外光谱	第34-37页
·AFM图像	第37-40页
·酞菁类配合物旋涂膜的气敏性	第40-63页
·中心金属对气敏性的影响	第40-49页
·薄膜形貌对气敏性的影响	第49-51页
·气体浓度对气敏性的影响	第51-53页
·外界条件对气敏性的影响	第53-58页
·选择性	第58-63页
结论	第63-64页
致谢	第64-65页
参考文献	第65-71页