| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| ·课题背景及研究的目的及意义 | 第9-10页 |
| ·表面形貌测量技术发展概况 | 第10-13页 |
| ·触针式表面测量技术 | 第11页 |
| ·光学式表面测量技术 | 第11-12页 |
| ·扫描显微镜表面测量技术 | 第12-13页 |
| ·表面形貌评价方法及研究现状 | 第13-15页 |
| ·传统的二维与三维粗糙度表征 | 第13页 |
| ·Motif法 | 第13-14页 |
| ·分形法 | 第14-15页 |
| ·小波方法 | 第15页 |
| ·表面功率谱密度评价方法的发展 | 第15-17页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第17-18页 |
| 第2章 表面粗糙度的评定与功率谱密度评价方法 | 第18-36页 |
| ·引言 | 第18页 |
| ·表面粗糙度的评定 | 第18-20页 |
| ·表面粗糙度的二维评定参数 | 第18-19页 |
| ·表面粗糙度的三维评定参数 | 第19-20页 |
| ·功率谱密度的定义及物理内涵 | 第20-24页 |
| ·功率谱密度的定义 | 第21-22页 |
| ·功率谱密度的物理内涵 | 第22-24页 |
| ·一维功率谱密度估计算法研究 | 第24-30页 |
| ·周期图法及估计质量 | 第24-27页 |
| ·周期图法的修正算法 | 第27-30页 |
| ·二维功率谱密度的定义与估计算法 | 第30-35页 |
| ·二维功率谱密度的定义 | 第31页 |
| ·二维功率谱密度的估计算法 | 第31-33页 |
| ·二维与一维功率谱密度之间的计算关系 | 第33-34页 |
| ·功率谱密度与一般评定参数之间的计算关系 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第3章 表面粗粗糙度测量仪器的分析与选择 | 第36-45页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·Form Talysurf PGI 1240 轮廓仪 | 第36-39页 |
| ·仪器简介 | 第36-37页 |
| ·仪器的测量原理 | 第37-38页 |
| ·仪器的误差分析 | 第38-39页 |
| ·Talysurf CCI 2000 白光干涉仪 | 第39-41页 |
| ·仪器简介 | 第39-40页 |
| ·仪器的测量原理 | 第40页 |
| ·仪器的误差分析 | 第40-41页 |
| ·Nanoscope Dimension 3100 原子显微镜 | 第41-43页 |
| ·仪器简介 | 第41-42页 |
| ·仪器的测量原理 | 第42-43页 |
| ·仪器的误差分析 | 第43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第4章 表面粗糙度的测量实验与测量结果分析 | 第45-57页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·实验方案与实验步骤 | 第45页 |
| ·测量实验及其测量结果 | 第45-49页 |
| ·PGI 1240 测量参数的选取与测量结果 | 第45-46页 |
| ·CCI 2000 测量参数的选取与测量结果 | 第46-48页 |
| ·AFM测量参数的选取与测量结果 | 第48-49页 |
| ·测量结果分析 | 第49-51页 |
| ·采样间距对测量结果的影响 | 第50页 |
| ·测量范围对测量结果的影响 | 第50-51页 |
| ·测量结果的功率谱密度分析 | 第51-55页 |
| ·不同采样间距下的测量结果PSD分析 | 第51-52页 |
| ·不同测量范围下的测量结果PSD分析 | 第52-53页 |
| ·不同仪器测量结果的对比 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第5章 基于频谱分析确定采样条件的方法及功率谱密度表征 | 第57-71页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·频谱分析确定采样条件的方法 | 第57-63页 |
| ·方法概述 | 第57-58页 |
| ·方法描述 | 第58-59页 |
| ·应用频谱分析确定采样条件的实验 | 第59-63页 |
| ·应用频谱分析确定合理采样条件的步骤 | 第63页 |
| ·超精密加工表面的功率谱密度表征 | 第63-69页 |
| ·试样的材质及其加工与测量参数 | 第63-64页 |
| ·超精密加工表面的功率谱密度表征 | 第64-67页 |
| ·应用一维功率谱密度实现不同加工方法的对比 | 第67-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 结论 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 附录 | 第77-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
