| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-16页 |
| ·等离子体电解氧化(微弧氧化)技术的研究历史及现状 | 第7-8页 |
| ·等离子体电解 | 第8-10页 |
| ·微弧氧化技术的基本原理 | 第10-12页 |
| ·微弧氧化技术的特点及应用领域 | 第12-14页 |
| ·钛及其合金微弧氧化的研究现状 | 第14页 |
| ·论文的选题 | 第14-16页 |
| 第二章 实验设备与研究方法 | 第16-22页 |
| ·实验设备 | 第16-17页 |
| ·实验材料和处理工艺 | 第17-18页 |
| ·微弧氧化的具体制备过程 | 第18-20页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜的表征手段及研究方法 | 第20-21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章 微弧氧化制备TiO_2陶瓷膜的生长特性研究 | 第22-46页 |
| ·生长特性研究实验过程介绍 | 第22页 |
| ·微弧氧化时间对TiO_2陶瓷膜的影响 | 第22-27页 |
| ·微弧氧化电压对TiO_2陶瓷膜的影响 | 第27-30页 |
| ·微弧氧化脉冲频率对TiO_2陶瓷膜的影响 | 第30-34页 |
| ·微弧氧化占空比对TiO_2陶瓷膜的影响 | 第34-38页 |
| ·电解液组分对TiO_2陶瓷膜的影响 | 第38-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 微弧氧化二氧化钛工艺参数总结 | 第46-49页 |
| ·氧化时间的确定 | 第46页 |
| ·微弧氧化工作电压 | 第46页 |
| ·电流密度的确定 | 第46-47页 |
| ·电解液的选择 | 第47-49页 |
| 结论 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |