脉冲激光沉积法制备FeS2薄膜的性能以及表面，应力特征
| 摘要 | 第1-7页 |
| 英文摘要 | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-37页 |
| ·引言 | 第11-14页 |
| ·FeS_2基本性质 | 第14-17页 |
| ·FeS_2的制备方法 | 第17-29页 |
| ·磁控溅射法 | 第17-19页 |
| ·电沉积法 | 第19-20页 |
| ·化学气相沉积法 | 第20-22页 |
| ·闪蒸镀法 | 第22-24页 |
| ·喷雾热解法 | 第24-26页 |
| ·其他FeS_2薄膜制备法 | 第26-29页 |
| ·FeS_2薄膜的电学性能 | 第29-33页 |
| ·FeS_2薄膜的光学性能 | 第33-35页 |
| ·本文研究目的以及主要创新点 | 第35-37页 |
| 第二章 实验方案及过程 | 第37-45页 |
| ·FeS_2薄膜的制备 | 第39-40页 |
| ·脉冲激光沉积系统 | 第39-40页 |
| ·基底的清洗流程 | 第40页 |
| ·脉冲激光沉积法制备先驱体薄膜 | 第40-41页 |
| ·先驱体薄膜的硫化热处理 | 第41-42页 |
| ·FeS_2薄膜微观结构和性能表征 | 第42-45页 |
| ·晶体结构分析 | 第42-43页 |
| ·表面形貌观察 | 第43页 |
| ·FeS_2薄膜光学及电学性能检测 | 第43-44页 |
| ·FeS_2薄膜表面性能检测 | 第44页 |
| ·FeS_2薄膜应力测试分析 | 第44-45页 |
| 第三章 PLD法制备FeS_2薄膜的性能研究 | 第45-67页 |
| ·先驱体薄膜的表征 | 第45-47页 |
| ·退火温度对FeS_2薄膜晶体结构的影响 | 第47-52页 |
| ·硫化温度和FeS_2薄膜微观组织的关系 | 第52-59页 |
| ·硫化温度和FeS_2薄膜电学性能的关系 | 第59-62页 |
| ·硫化温度和FeS_2薄膜光学性能的关系 | 第62-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第四章 FeS_2薄膜生长特征研究 | 第67-91页 |
| ·Fe_2O_3先驱体薄膜低温硫化后的表面形貌 | 第68-69页 |
| ·低温硫化后薄膜晶粒尺寸分布 | 第69-71页 |
| ·低温硫化时晶粒生长的相关动力学参数 | 第71-75页 |
| ·Fe_2O_3先驱体薄膜高温硫化后表面形貌 | 第75-76页 |
| ·高温硫化后薄膜的晶粒尺寸分布 | 第76-79页 |
| ·高温硫化过程中晶粒生长的动力学过程 | 第79-83页 |
| ·薄膜生长过程中择优取向变化 | 第83-86页 |
| ·FeS_2薄膜生长过程中缺陷分析 | 第86-89页 |
| ·本章小结 | 第89-91页 |
| 第五章 FeS_2薄膜表面以及应力特征研究 | 第91-115页 |
| ·FeS_2薄膜表面元素状态分析 | 第92-97页 |
| ·FeS_2薄膜表面自由能研究 | 第97-105页 |
| ·FeS_2薄膜内应力研究 | 第105-113页 |
| ·本章小结 | 第113-115页 |
| 第六章 全文总结与展望 | 第115-119页 |
| ·全文总结 | 第115-116页 |
| ·研究展望 | 第116-119页 |
| 参考文献 | 第119-131页 |
| 致谢 | 第131-133页 |
| 个人简历 | 第133-135页 |
| 攻读学位期间所取得的科研成果 | 第135页 |
