| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章绪论 | 第8-20页 |
| 引言 | 第8页 |
| 1.1金属有机骨架化合物（MOF）的简介 | 第8-9页 |
| 1.2金属骨架化合物（MOF）的应用 | 第9页 |
| 1.3金属有机骨架化合物对水和热稳定性的研究 | 第9-10页 |
| 1.4金属有机骨架化合物的半导体性能研究 | 第10-12页 |
| 1.5对MOF半导体材料的能带结构和禁带宽度的理论计算研究现状 | 第12-14页 |
| 1.6基于四（4-羧基苯基）硅烷（H4TCS）的MOF材料 | 第14-17页 |
| 1.7本论文的研究目的、研究方法、研究成果 | 第17-20页 |
| 1.7.1研究目的和研究方法 | 第17页 |
| 1.7.2研究成果 | 第17-20页 |
| 第二章半导体MOF的能带结构和态密度的理论计算研究 | 第20-42页 |
| 2.1引言 | 第20-24页 |
| 2.2计算方法 | 第24-26页 |
| 2.3结果与讨论 | 第26-41页 |
| 2.3.1结构优化 | 第26-27页 |
| 2.3.2能带结构和态密度分布（DOS）图 | 第27-32页 |
| 2.3.3理论计算的Eg与实验值的比较 | 第32-39页 |
| 2.3.4MOF1-3的DOS图 | 第39-41页 |
| 2.4本章小结 | 第41-42页 |
| 第三章基于四面体配体H4TCS和1,4-二（对吡啶基）苯的Co（Ⅱ）、Ni（Ⅱ）和Cu（Ⅱ）MOF材料的UV-vis吸收光谱和光电性质研究 | 第42-55页 |
| 3.1引言 | 第42-43页 |
| 3.2实验部分 | 第43-46页 |
| 3.2.1主要实验试剂 | 第43-44页 |
| 3.2.2表征仪器和方法 | 第44页 |
| 3.2.3配合物[Cu（H2TCS）（H2O）]（4）的合成 | 第44-45页 |
| 3.2.4Co（H2TCS）（BPB）（5）的合成的合成 | 第45页 |
| 3.2.5配合物Ni（H2TCS）（BPB）（6）的合成 | 第45-46页 |
| 3.3结果与讨论 | 第46-53页 |
| 3.3.1合成研究 | 第46-49页 |
| 3.3.2MOF4-6的拓扑结构分析 | 第49-51页 |
| 3.3.3MOF4-6的UV-Vis漫反射光谱和禁带宽度 | 第51-52页 |
| 3.3.4MOF4-6的光电性质 | 第52-53页 |
| 3.4本章小结 | 第53-55页 |
| 第四章基于H4TCS配体和1,4-二（2-甲基-3-咪唑基）苯的Ni（Ⅱ）新型MOF材料的合成与表征 | 第55-68页 |
| 4.1引言 | 第55-56页 |
| 4.2实验部分 | 第56-59页 |
| 4.2.1主要实验试剂 | 第56页 |
| 4.2.2一般表征仪器和方法 | 第56-57页 |
| 4.2.3配合物的合成 | 第57-58页 |
| 4.2.4晶体结构的测定和晶体学数据 | 第58-59页 |
| 4.3结果与讨论 | 第59-66页 |
| 4.3.1MOF7和8的合成和表征 | 第59-60页 |
| 4.3.2结构描述 | 第60-64页 |
| 4.3.3MOF7和8的气体吸附性质 | 第64-65页 |
| 4.3.4MOF7和8的热稳定性和对水的稳定性 | 第65-66页 |
| 4.4本章小结 | 第66-68页 |
| 第五章结论和展望 | 第68-70页 |
| 附录A | 第70-78页 |
| 参考文献 | 第78-90页 |
| 在读期间发表的学术论文及研究成果 | 第90-91页 |
| 致谢 | 第91页 |
