| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-14页 |
| 1绪论 | 第14-31页 |
| 1.1研究背景 | 第14-15页 |
| 1.2闪烧工艺概述 | 第15-23页 |
| 1.2.1闪烧工艺流程 | 第15-17页 |
| 1.2.2闪烧的应用领域 | 第17-19页 |
| 1.2.3闪烧的影响因素 | 第19-23页 |
| 1.3闪烧的机理 | 第23-29页 |
| 1.3.1焦耳热效应 | 第23-24页 |
| 1.3.2晶界局部过热 | 第24-26页 |
| 1.3.3弗伦克尔缺陷 | 第26-27页 |
| 1.3.4电化学反应 | 第27-29页 |
| 1.4选题依据与研究内容 | 第29-31页 |
| 1.4.1选题依据与意义 | 第29页 |
| 1.4.2本文的研究内容 | 第29-30页 |
| 1.4.3本文的创新点 | 第30-31页 |
| 2实验和分析方法 | 第31-35页 |
| 2.1实验原料和设备 | 第31-32页 |
| 2.1.1实验原料 | 第31页 |
| 2.1.2实验设备 | 第31-32页 |
| 2.2实验方法 | 第32-33页 |
| 2.3测试与表征方法 | 第33-35页 |
| 2.3.1X射线衍射（XRD） | 第33页 |
| 2.3.2扫描电子显微镜（SEM） | 第33-34页 |
| 2.3.3透射电子显微镜（TEM） | 第34页 |
| 2.3.4激光拉曼光谱仪（Raman） | 第34页 |
| 2.3.5电性能测试 | 第34-35页 |
| 3闪烧参数对3YSZ导电行为和缺陷的影响 | 第35-52页 |
| 3.1闪烧过程中电导率的研究 | 第35-42页 |
| 3.1.1闪烧3YSZ微观形貌与黑体温度分析 | 第36-38页 |
| 3.1.2闪烧3YSZ的电导率和氧空位分析 | 第38-42页 |
| 3.2不同起始温度下电导率的研究 | 第42-47页 |
| 3.2.1不同温度下闪烧3YSZ的微观形貌与黑体温度分析 | 第42-44页 |
| 3.2.2不同温度下闪烧3YSZ的电导率与氧空位分析 | 第44-47页 |
| 3.3氧分压对闪烧3YSZ的影响 | 第47-51页 |
| 3.3.1氧分压对不同炉温闪烧的影响 | 第47-49页 |
| 3.3.2氧分压对孕育时间的影响 | 第49-51页 |
| 3.4本章小结 | 第51-52页 |
| 4闪烧3YSZ陶瓷区域差异性研究 | 第52-68页 |
| 4.1直流电场下不同区域电性能差异的研究 | 第52-63页 |
| 4.1.1闪烧3YSZ不同区域阻抗分析 | 第53-55页 |
| 4.1.2闪烧3YSZ不同区域偏压势垒分析 | 第55-60页 |
| 4.1.3不同电学参数对闪烧3YSZ阻抗和缺陷的影响 | 第60-63页 |
| 4.2闪烧3YSZ缺陷形貌研究 | 第63-67页 |
| 4.2.1不同电学参数对孔隙形成的影响 | 第63-65页 |
| 4.2.2不同电流密度下高维缺陷的形成 | 第65-67页 |
| 4.3本章小结 | 第67-68页 |
| 5结论与展望 | 第68-70页 |
| 5.1结论 | 第68-69页 |
| 5.2展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 个人简历及硕士期间取得的成绩 | 第76-77页 |
| 个人简历 | 第76页 |
| 教育背景 | 第76页 |
| 发表论文 | 第76页 |
| 学术成果 | 第76页 |
| 项目经历 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
