| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-31页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·强磁场技术发展概述 | 第12-14页 |
| ·强磁场在固态相变中的应用 | 第14-21页 |
| ·强磁场下元素的扩散行为 | 第14-15页 |
| ·强磁场下固态相变生成相形貌 | 第15-18页 |
| ·强磁场对固态相变中相稳定性的影响 | 第18-19页 |
| ·强磁场作用细化晶粒 | 第19-21页 |
| ·Ni系合金元素扩散行为的研究进展 | 第21-30页 |
| ·Ni-Cu合金 | 第21-26页 |
| ·Ni-Al合金 | 第26-28页 |
| ·K52合金 | 第28-30页 |
| ·本课题研究的目的和意义 | 第30-31页 |
| 2 强磁场作用下Ni-Cu二元系的元素扩散 | 第31-46页 |
| ·引言 | 第31页 |
| ·实验材料与方法 | 第31-38页 |
| ·扩散偶的制备及热处理工艺 | 第31-34页 |
| ·强磁场实验装置 | 第34-35页 |
| ·显微组织观察与测试分析 | 第35-36页 |
| ·扩散系数的测定 | 第36-38页 |
| ·Cu-Ni-Cu扩散偶中Ni和Cu元素的互扩散行为 | 第38-43页 |
| ·Ni-Cu的频率因子和互扩散激活能 | 第43-44页 |
| ·强磁场作用下原子的渗透距离 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 3 强磁场下Cu-Ni-Cu扩散偶界面DIR区生长行为研究 | 第46-69页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·实验材料与方法 | 第46-47页 |
| ·扩散偶的制备及热处理工艺 | 第46页 |
| ·显微组织观察与测试分析 | 第46-47页 |
| ·扩散偶中DIR区的形貌特征 | 第47-52页 |
| ·原始扩散偶的界面 | 第47-48页 |
| ·扩散偶的DIR区特征 | 第48-51页 |
| ·扩散偶DIR区的再结晶晶粒 | 第51-52页 |
| ·扩散偶中DIR区的生长 | 第52-60页 |
| ·扩散偶中DIR区的生长行为 | 第52-58页 |
| ·磁感应强度与DIR区生长的相关性 | 第58-60页 |
| ·可动边界的迁移率 | 第60-65页 |
| ·扩散偶界面的化学成分 | 第60-62页 |
| ·可动边界的迁移率 | 第62-65页 |
| ·扩散偶DIR区生长的驱动力 | 第65-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 4 强磁场作用下Ni-Al扩散偶中间相的形成和生长 | 第69-84页 |
| ·引言 | 第69页 |
| ·实验材料与方法 | 第69-73页 |
| ·扩散偶的制备及热处理工艺 | 第69-71页 |
| ·强磁场实验装置 | 第71-72页 |
| ·显微组织观察与测试分析 | 第72-73页 |
| ·原始扩散偶界面相组成与表征 | 第73-74页 |
| ·扩散偶界面相组成及长大规律 | 第74-80页 |
| ·退火时间对扩散偶界面相组成的影响 | 第74-77页 |
| ·扩散偶界面中间相的生长 | 第77-80页 |
| ·强磁场对原子扩散行为的影响 | 第80-83页 |
| ·本章小结 | 第83-84页 |
| 5 强磁场作用下镍基合金K52时效处理的组织与性能 | 第84-105页 |
| ·引言 | 第84页 |
| ·实验材料与方法 | 第84-85页 |
| ·强磁场实验装置 | 第85页 |
| ·显微组织观察与测试分析 | 第85页 |
| ·强磁场作用下K52合金的微观组织 | 第85-102页 |
| ·铸态显微组织 | 第85-86页 |
| ·固溶处理后的显微组织 | 第86-87页 |
| ·强磁场下二次固溶处理后的显微组织 | 第87-90页 |
| ·强磁场下时效处理的γ’析出相 | 第90-98页 |
| ·强磁场下时效处理的碳化物 | 第98-102页 |
| ·强磁场作用下时效处理后合金的性能特点 | 第102-104页 |
| ·本章小结 | 第104-105页 |
| 结论 | 第105-107页 |
| 创新点摘要 | 第107-108页 |
| 参考文献 | 第108-117页 |
| 攻读博士学位期间发表学术论文情况 | 第117-118页 |
| 致谢 | 第118-119页 |
| 作者简介 | 第119-121页 |
