| 中文摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 软磁材料的发展与应用 | 第11-12页 |
| 1.2 条纹畴结构的研究现状 | 第12-21页 |
| 1.2.1 条纹畴结构的起源和临界厚度 | 第12-14页 |
| 1.2.2 条纹畴的唯象模型 | 第14-17页 |
| 1.2.3 条纹畴高频的研究现状 | 第17-20页 |
| 1.2.4 实验中影响条纹畴形成的因素 | 第20-21页 |
| 1.3 本论文的研究动机和主要内容 | 第21-22页 |
| 参考文献 | 第22-27页 |
| 第二章 磁性理论基础 | 第27-47页 |
| 2.1 铁磁材料的静态磁化机制 | 第27-31页 |
| 2.1.1 铁磁体的磁滞回线和基本磁参数 | 第27-28页 |
| 2.1.2 磁性材料中的磁畴和畴壁 | 第28-29页 |
| 2.1.3 随机各向异性模型 | 第29-31页 |
| 2.2 磁各向异性理论 | 第31-33页 |
| 2.2.1 磁晶各向异性 | 第32页 |
| 2.2.2 形状各向异性 | 第32页 |
| 2.2.3 感生各向异性 | 第32-33页 |
| 2.2.4 应力各向异性 | 第33页 |
| 2.3 软磁材料的高频磁共振 | 第33-39页 |
| 2.3.1 高频磁导率和自然共振 | 第33-34页 |
| 2.3.2 磁化强度进动方程 | 第34页 |
| 2.3.3 无穷大的样品的进动频率 | 第34-36页 |
| 2.3.4 高频磁化率 | 第36-37页 |
| 2.3.5 具有面内单轴各向异性的薄膜的进动过程 | 第37-38页 |
| 2.3.6 单轴各向异性薄膜的高频磁谱 | 第38-39页 |
| 2.3.7 铁磁共振的表达式 | 第39页 |
| 2.4 自旋整流效应的基本原理 | 第39-44页 |
| 2.4.1 各向异性磁电阻和反常霍尔效应 | 第40-42页 |
| 2.4.2 广义欧姆定律 | 第42页 |
| 2.4.3 基于微带线夹具的SRE直流电压 | 第42-44页 |
| 参考文献 | 第44-47页 |
| 第三章 样品的制备及性能表征 | 第47-60页 |
| 3.1 样品的制备方法 | 第47-52页 |
| 3.1.1 磁控溅射 | 第47-49页 |
| 3.1.2 静电纺丝 | 第49-50页 |
| 3.1.3 微纳加工技术 | 第50-52页 |
| 3.2 样品的性能表征 | 第52-58页 |
| 3.2.1 X射线衍射(XRD) | 第52页 |
| 3.2.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第52-53页 |
| 3.2.3 原子力/磁力显微镜(AFM/MFM) | 第53-54页 |
| 3.2.4 振动样品磁强计(VSM) | 第54-55页 |
| 3.2.5 矢量网络分析仪(VNA) | 第55-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
| 第四章 面内各向异性对条纹畴结构薄膜的高频调控 | 第60-91页 |
| 4.1 条纹畴复合薄膜的静态和动态磁性能 | 第60-74页 |
| 4.1.1 纳米线/坡莫复合薄膜 | 第60-65页 |
| 4.1.2 不同纳米线对坡莫薄膜的各向异性以及高频磁性的影响 | 第65-69页 |
| 4.1.3 微米条带结构对条纹畴结构薄膜的高频性能的调控 | 第69-74页 |
| 4.2 制备工艺对条纹畴结构薄膜的高频调控 | 第74-86页 |
| 4.2.1 不同厚度的坡莫薄膜的静态和动态磁性能 | 第74-78页 |
| 4.2.2 斜溅射调控条纹畴结构薄膜的高频磁性 | 第78-82页 |
| 4.2.3 磁场热处理对条纹畴结构的高频响应的影响 | 第82-86页 |
| 4.3 本章小结 | 第86-88页 |
| 参考文献 | 第88-91页 |
| 第五章 掺杂对条纹畴结构静态和动态磁性的调控 | 第91-103页 |
| 5.1 非金属氧化物二氧化硅掺杂 | 第91-96页 |
| 5.2 稀土元素镝掺杂 | 第96-97页 |
| 5.3 过渡金属元素锆掺杂 | 第97-100页 |
| 5.4 本章小结 | 第100-101页 |
| 参考文献 | 第101-103页 |
| 第六章 利用自旋整流效应研究铁磁薄膜高频性能 | 第103-126页 |
| 6.1 条纹畴结构坡莫合金薄膜的高频性能 | 第103-108页 |
| 6.1.1 坡莫薄膜的静态磁特性 | 第104页 |
| 6.1.2 坡莫薄膜的动态磁特性 | 第104-108页 |
| 6.2 交换偏置双层膜的磁性能 | 第108-114页 |
| 6.2.1 交换偏置双层膜的非共振SRE | 第108-110页 |
| 6.2.2 NiFe/IrMn双层膜的交换偏置场 | 第110-111页 |
| 6.2.3 交换偏置双层膜的共振SRE | 第111-114页 |
| 6.3 自旋转移矩-铁磁共振(ST-FMR) | 第114-122页 |
| 6.3.1 ST-FMR的推导过程 | 第115-119页 |
| 6.3.2 Py/Pt双层膜的结果分析 | 第119-122页 |
| 6.4 本章小结 | 第122-123页 |
| 参考文献 | 第123-126页 |
| 第七章 总结与展望 | 第126-128页 |
| 7.1 本论文的主要研究内容及结论 | 第126-127页 |
| 7.2 存在的问题与工作展望 | 第127-128页 |
| 附录 图案化对坡莫薄膜磁性能的影响 | 第128-139页 |
| 1.1 三明治结构圆盘阵列的静态和动态磁性能 | 第129-133页 |
| 1.2 条带调控坡莫薄膜的静态和动态磁性 | 第133-136页 |
| 1.3 本章小结 | 第136-137页 |
| 参考文献 | 第137-139页 |
| 在学期间研究成果 | 第139-142页 |
| 致谢 | 第142页 |
