| 中文摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-23页 |
| 1.1 研究背景 | 第12-18页 |
| 1.1.1 软磁材料的特性和应用 | 第12-13页 |
| 1.1.2 传统软磁薄膜的研究动态 | 第13-14页 |
| 1.1.3 CoIr薄膜的最新研究状况 | 第14-15页 |
| 1.1.4 具有负磁晶各向异性的其他材料 | 第15-18页 |
| 1.2 本文的研究内容和意义 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-23页 |
| 第二章 理论基础 | 第23-44页 |
| 2.1 物质的磁性 | 第23-24页 |
| 2.2 宏观物体的磁性 | 第24-25页 |
| 2.3 铁磁材料的磁性 | 第25-27页 |
| 2.4 铁磁材料内的各种能量 | 第27-29页 |
| 2.4.1 磁晶各向异性 | 第27-28页 |
| 2.4.2 磁应力各向异性 | 第28页 |
| 2.4.3 形状各向异性 | 第28-29页 |
| 2.4.4 感生磁各向异性 | 第29页 |
| 2.5 铁磁薄膜中的磁畴 | 第29-31页 |
| 2.6 铁磁薄膜的动态磁参数 | 第31-32页 |
| 2.7 动态磁化过程的磁损耗 | 第32-33页 |
| 2.8 磁化强度进动方程 | 第33-34页 |
| 2.9 自然共振 | 第34页 |
| 2.10 高频磁谱公式 | 第34-36页 |
| 2.11 双各向异性模型 | 第36-37页 |
| 2.12 铁磁共振分析 | 第37-41页 |
| 参考文献 | 第41-44页 |
| 第三章 样品的制备和性能表征 | 第44-59页 |
| 3.1 薄膜样品的制备方法 | 第44-49页 |
| 3.1.1 磁控溅射 | 第44-47页 |
| 3.1.2 薄膜制备过程 | 第47-48页 |
| 3.1.3 薄膜生长过程 | 第48-49页 |
| 3.2 薄膜性能的表征 | 第49-58页 |
| 3.2.1 X射线衍射仪(XRD) | 第49-50页 |
| 3.2.2 轮廓测试仪(SPM) | 第50-51页 |
| 3.2.3 X-射线能量色散谱(EDS) | 第51页 |
| 3.2.4 振动样品磁强计(VSM) | 第51-52页 |
| 3.2.5 磁光克尔(MOKE) | 第52页 |
| 3.2.6 扫描探针显微镜(SPM) | 第52-53页 |
| 3.2.7 透射电子显微镜(TEM) | 第53-54页 |
| 3.2.8 扫描电子显微镜(SEM) | 第54页 |
| 3.2.9 电子自旋共振谱仪(ESR) | 第54-56页 |
| 3.2.10 矢量网络分析仪(VNA) | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-59页 |
| 第四章 CoIr薄膜的静态和高频磁性调控 | 第59-79页 |
| 4.1 不同溅射角度的CoIr薄膜的静态和高频磁性 | 第59-65页 |
| 4.1.1 薄膜制备 | 第59-61页 |
| 4.1.2 性能表征 | 第61-64页 |
| 4.1.3 小结 | 第64-65页 |
| 4.2 不同退火温度的CoIr薄膜静态和高频磁性 | 第65-69页 |
| 4.2.1 薄膜制备 | 第65页 |
| 4.2.2 性能表征 | 第65-69页 |
| 4.2.3 小结 | 第69页 |
| 4.3 不同衬底层的CoIr薄膜的静态和高频磁性 | 第69-76页 |
| 4.3.1 薄膜制备 | 第70页 |
| 4.3.2 性能表征 | 第70-75页 |
| 4.3.3 小结 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-79页 |
| 第五章 掺杂物对CoIr薄膜高频磁性的调控 | 第79-103页 |
| 5.1 掺杂物Cr对 CoIr薄膜静态和高频磁性的调控 | 第79-84页 |
| 5.1.1 薄膜制备 | 第79页 |
| 5.1.2 性能表征 | 第79-84页 |
| 5.1.3 小结 | 第84页 |
| 5.2 掺杂物(B\SiO2\Ni)对CoIr薄膜静态和高频磁性的调控 | 第84-93页 |
| 5.2.1 薄膜制备 | 第84-85页 |
| 5.2.2 掺杂物B薄膜的性能表征 | 第85-88页 |
| 5.2.3 掺杂物SiO2薄膜的性能表征 | 第88-90页 |
| 5.2.4 掺杂物Ni薄膜的性能表征 | 第90-93页 |
| 5.2.5 小结 | 第93页 |
| 5.3 掺杂物对CoIr软磁薄膜磁阻尼常数的调控 | 第93-100页 |
| 5.3.1 薄膜制备 | 第94页 |
| 5.3.2 性能表征 | 第94-99页 |
| 5.3.3 小结 | 第99-100页 |
| 参考文献 | 第100-103页 |
| 第六章 微米厚高取向CoIr薄膜的微波磁性 | 第103-112页 |
| 6.1.1 薄膜制备 | 第103页 |
| 6.1.2 性能表征 | 第103-109页 |
| 6.1.3 小结 | 第109-110页 |
| 参考文献 | 第110-112页 |
| 第七章 稀土软磁薄膜的制备探索 | 第112-122页 |
| 7.1 SmFeB薄膜的制备研究 | 第112-116页 |
| 7.1.1 标定样品溅射速率 | 第113页 |
| 7.1.2 Cr和 Ta衬底样品制作和性能表征 | 第113-114页 |
| 7.1.3 退火制作Ta衬底样品和性能表征 | 第114-116页 |
| 7.2 CoY薄膜的制备研究 | 第116-120页 |
| 7.2.1 Cu衬底薄膜样品制作和性能表征 | 第116-118页 |
| 7.2.2 Al2O3基底薄膜样品制作和性能表征 | 第118-119页 |
| 7.2.3 TiPt衬底薄膜样品制作和性能表征 | 第119-120页 |
| 7.3 总结 | 第120-121页 |
| 参考文献 | 第121-122页 |
| 第八章 结论和展望 | 第122-124页 |
| 在学期间的研究成果 | 第124-125页 |
| 致谢 | 第125页 |
