| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 1 绪论 | 第11-18页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 ZnO薄膜的研究历史和发展现状 | 第11-14页 |
| 1.2.1 ZnO的基本性质 | 第12-13页 |
| 1.2.2 ZnO材料的研究历史 | 第13页 |
| 1.2.3 ZnO薄膜的发展现状 | 第13-14页 |
| 1.3 ZnO掺杂的研究概况 | 第14-15页 |
| 1.4 Mg_xZn_(1-x)O薄膜的特性与研究现状 | 第15-16页 |
| 1.5 本课题的选题背景和研究内容 | 第16-18页 |
| 2 MgZnO薄膜的制备工艺及分析测试方法 | 第18-31页 |
| 2.1 MgZnO薄膜的制备方法简介 | 第18-20页 |
| 2.1.1 金属有机化学气相沉积法(MOCVD) | 第18页 |
| 2.1.2 分子束外延法(MBE) | 第18-19页 |
| 2.1.3 磁控溅射法(Magnetron Sputter,MS) | 第19页 |
| 2.1.4 脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition, PLD) | 第19-20页 |
| 2.2 脉冲激光沉积(PLD)技术 | 第20-25页 |
| 2.2.1 脉冲激光沉积概述 | 第20页 |
| 2.2.2 脉冲激光沉积的原理 | 第20-22页 |
| 2.2.3 脉冲激光沉积(PLD)的特点 | 第22页 |
| 2.2.4 脉冲激光沉积(PLD)沉积设备简介 | 第22-25页 |
| 2.3 Mg_xZn_(1-x)O薄膜的制备 | 第25-26页 |
| 2.4 Mg_xZn_(1-x)O薄膜的分析测试方法 | 第26-31页 |
| 2.4.1 原子力显微镜(Atomic Force Microscopy,AFM) | 第27页 |
| 2.4.2 X射线衍射(X-Ray Diffraction,XRD) | 第27-29页 |
| 2.4.3 紫外-可见分光光度计(UV-VIS Spectrophotometer) | 第29页 |
| 2.4.4 X射线光电子能谱(X-Ray Photoelectron Spectroscopy,XPS) | 第29-30页 |
| 2.4.5 拉曼光谱(Raman Spectrum) | 第30-31页 |
| 3 沉积氧压对Mg_xZn_(1-x)O薄膜结构和性能的影响 | 第31-38页 |
| 3.1 样品的制备 | 第31页 |
| 3.2 实验结果与讨论 | 第31-37页 |
| 3.2.1 不同氧分压对Mg_xZn_(1-x)O薄膜表面形貌的影响 | 第31-32页 |
| 3.2.2 沉积氧压对Mg_xZn_(1-x)O薄膜相结构的影响 | 第32-34页 |
| 3.2.3 沉积氧压对Mg_xZn_(1-x)O薄膜成分的影响 | 第34-35页 |
| 3.2.4 沉积氧压对Mg_xZn_(1-x)O薄膜光学性能的影响 | 第35-37页 |
| 3.3 本章小结 | 第37-38页 |
| 4 衬底温度对Mg_xZn_(1-x)O薄膜结构和性能的影响 | 第38-45页 |
| 4.1 样品的制备 | 第38页 |
| 4.2 实验结果与讨论 | 第38-44页 |
| 4.2.1 衬底温度对Mg_xZn_(1-x)O薄膜表面形貌的影响 | 第38-40页 |
| 4.2.2 衬底温度对Mg_xZn_(1-x)O薄膜成分的影响 | 第40-41页 |
| 4.2.3 衬底温度对Mg_xZn_(1-x)O薄膜相结构的影响 | 第41-42页 |
| 4.2.4 衬底温度对Mg_xZn_(1-x)O薄膜光学性能的影响 | 第42-44页 |
| 4.3 本章小结 | 第44-45页 |
| 5 在极性和非极性衬底上生长不同Mg含量的Mg_xZn_(1-x)O薄膜 | 第45-56页 |
| 5.1 样品的制备 | 第45页 |
| 5.2 结果讨论 | 第45-55页 |
| 5.2.1 c面蓝宝石衬底上制备不同Mg含量的Mg_xZn_(1-x)O薄膜结果讨论 | 第45-50页 |
| 5.2.2 r面蓝宝石衬底上制备不同Mg含量Mg_xZn_(1-x)O薄膜结果讨论 | 第50-55页 |
| 5.3 本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 附录 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
